Avec l'augmentation des exigences de raffinement des processus et la pression sur les coûts, la surveillance de la qualité de l'eau dans les entreprises n'est plus“Paramètre conforme« etC'est aussi simple qu'il en va de même pour la stabilité des processus, la gestion de la consommation d'énergie, la durée de vie des équipements et l'efficacité opérationnelle globale.

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Application de l'azote dissous dans l'eau fonctionnelle semi - conductrice

Introduction au contexte

Dans le temple de la haute technologie, la puce semi - conductrice est sans aucun doute cette perle brillante. Cependant, la naissance de cette perle n'a pas eu lieu du jour au lendemain et derrière elle se cachent d'innombrables processus artisanaux raffinés et rigoureux. Dans ces nombreux liens, les exigences de pureté de l'eau ont atteint un niveau presque exigeant. L'eau Ultrapure joue donc un rôle essentiel dans le processus de fabrication des puces semi - conductrices.

Pourquoi contrôler l'azote dissous dans l'eau fonctionnelle?

L'eau Ultrapure est l'eau de processus dans l'industrie de la microélectronique, et les usines de semi - conducteurs utiliseront beaucoup d'eau Ultrapure, principalement pour le nettoyage humide avant et après chaque processus. En plus de l'élimination du gaz de l'eau Ultrapure, pour répondre aux exigences d'utilisation de certaines tables semi - conductrices spécifiques, il est également nécessaire d'ajouter du gaz à l'eau Ultrapure pour répondre aux fonctions spécifiques de la table, ces eaux ultrapures gazeuses sont également appelées eaux fonctionnelles.

L'eau fonctionnelle modifie la solution par l'addition d'une substance de concentration spécifiqueZETAPotentiel (se réfère au potentiel de la surface de cisaillement, également appelé potentiel électrique ou potentiel électrique, est un indicateur important pour caractériser la stabilité du système de dispersion colloïdale). L'utilisation du concept de potentiel chimique modifie la distribution ionique à la surface de l'objet nettoyé, ce qui permet d'obtenir l'effet de répulsion de charge isogénique, améliorant ainsi le taux d'élimination de certaines particules à l'échelle nanométrique. DansCMP(polissage mécano - chimique) dans le système, l'aplatissement global ou local de la plaquette est réalisé par le cycle de réactions chimiques et de processus d'élimination mécanique, avec des exigences de plus en plus élevées pour la plaquette, le processus de fabrication est de plus en plus complexe,CMPLe nettoyage est effectué des dizaines de fois à l'origine à des centaines de fois ou plus à l'heure actuelle, tout en introduisant des gaz spéciaux dans le processus de polissage, améliorant ainsiCMPLe taux d'élimination des matériaux et la qualité de surface, réduire le taux de mauvais produit.

Pour obtenir de meilleurs résultats de nettoyage, de l'azote est généralement ajouté à de l'eau Ultrapure, tout en nécessitant un contrôle précis de la solubilité de l'azote dissous. HashOrbisphère 511La série d'Analyseurs d'azote dissous en ligne offre des capacités de surveillance de processus précises et puissantes.

Comment contrôler avec précision l'azote dissous?

Installation d'une usine d'électronique domestiqueOrbisphère511Analyseur d'azote dissous en ligne (ci - dessous) pour les données d'une certaine période de temps, les données sont stables à long terme à10 ~ 16ppm- Oui.

Selon le feedback du personnel sur place,HACHLe site d'azote dissous présente d'excellentes performances, un faible niveau d'entretien et ne nécessite qu'une seule maintenance par an.

deOrbisphère511Le cas des applications sur le terrain,511La conception de la sonde de la série de produits, qui peut garantir la mesure précise du capteur, fiable et à court temps de réponse, avec un excellent mécanisme de compensation de température intégré, assure une large applicabilité de l'instrument, l'utilisateur effectue une surveillance en ligne de l'azote dissous à travers cet instrument, réalise un contrôle précis de l'eau fonctionnelle, fournit des données de surveillance efficaces pour le contrôle du processus de l'eau de l'utilisateur, tout en garantissant un fonctionnement stable du processus post - utilisateur.