Dans les procédés de fabrication de films minces, certains Composés organométalliques (MOC), hydrure, ammoniac, etc. la pression de vapeur des précurseurs est bien inférieure à la pression atmosphérique standard (760 Torr), difficile à évaporer à température normale. Ces précurseurs doivent être transportés vers le dépôt chimique en phase vapeur(CVD)Dans le réacteur, la méthode traditionnelle consiste à utiliser un solvant/Chimie des solutés et transport des liquides. Certains précurseurs solides ont des limites de solubilité qui affectent le débit massique maximal délivré à la cavité du procédé.

Nous avons adopté une technologie avancée de mesure et de contrôle de la pression qui permet de contrôler directement le transport de la vapeur de précurseur solide sans utiliser de solvant, ce qui permet un transport précis et reproductible, ce qui rend la préparation de matériaux en film plus efficace.

Pour répondre aux besoins de la gamme de débit dans différents domaines, notre Contrôleur de basse pression de vapeur est construit avec un puissantCPU, peut réaliser une large gamme de contrôle de débit intelligent, la gamme de contrôle est pleine échelle10% ~ 100%- Oui.

Ce contrôleur de basse pression de vapeur est disponible en30℃~200℃La plage de température de fonctionnement maintient la mesure et le contrôle stables et convient aux environnements difficiles. AdoptionModbusAccord (RS485 / 232), permet facilement la connexion à un ordinateur ou à un autre appareil, la communication de données et le contrôle à distance.

Largement utilisé dans le processus de fabrication de films minces de diverses industries, telles que la fabrication de circuits intégrés de semi - conducteurs, les cellules solaires photovoltaïques à film mince, la recherche et le développement de nouveaux matériaux, les biocapteurs de dispositifs médicaux et de nombreuses autres industries, par le biais du processus de film mince critique, permettant à diverses industries de produire des matériaux de film mince de haute qualité.

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