INVITATION

La deuxième Conférence internationale sur les capteurs et transducteurs d'intelligence artificielle se tiendra du 29 juillet au 3 août à Kuala Lumpur, en Malaisie. Nous vous invitons cordialement à nous rendre visite sur notre stand [2] pour interagir avec Vincent Mazzola, ingénieur technico - commercial, et Leandro Sacco, spécialiste des applications, pour découvrir la technologie de nanoimpression sèche de vsparticle et découvrir ses dernières avancées dans le domaine de la recherche sur les matériaux de détection de gaz!

Heure de la réunion: 29 juillet - 3 août 2025

Lieu de la Conférence: Melia Hotel Kuala Lumpur, Malaisie

Numéro de stand: 2

✨ VSP show faits saillants à voir en premier

Partie 01.Comment la Nano - impression sèche réinvente - t - elle le chemin de la recherche et du développement des matériaux de détection?

La technologie de capteur de gaz à semi - conducteur à oxyde métallique (MOS) basée sur MEMS présente des avantages significatifs par rapport aux méthodes de surveillance traditionnelles: sensibilité de l'ordre du PPM, détection de plusieurs gaz cibles, miniaturisation facile, grande évolutivité et large gamme. Cependant, en termes de sensibilité et de sélectivité, les technologies MOS existantes restent difficiles à satisfaire pour certains scénarios d'application. Avec le système de dépôt Nano - imprimé vsparticle - P1, les indicateurs de performance du capteur peuvent être considérablement améliorés: d'une part, la sensibilité est améliorée en augmentant la surface spécifique la plus (sui) et d'autre part, l'optimisation sélective est obtenue par une régulation précise des composants du matériau.

Le système de dépôt Nano - imprimé VSP - P1 offre une solution révolutionnaire pour la fabrication de capteurs de gaz, basée sur deux technologies principales, Spark ablation et Inertial impact:

1. Ablation par étincelle: vaporisation instantanée d'électrodes métalliques par ablation par étincelle à haute tension, génération de nanoparticules ultra - pures (NP), mélange flexible d'oxydes métalliques (tels que sno₂, NiO）、 Matériaux tels que les catalyseurs de métaux précieux tels que l'AG, permettant une couche nanoporeuse (NPL) sur mesure.

2. Impact inertiel imprimer: dépôt de nanoparticules à grande vitesse sur le substrat du capteur, sans processus de lithographie ou de gravure, permettant un dépôt à motifs. L'ensemble du processus évite la contamination chimique, assure une pureté et une cohérence élevées du matériau et améliore considérablement les performances du capteur.

Partie 02.Filtrage rapide des revêtements de détection de gaz métal / oxyde à haut débit et multicomposants

Dans ce cas, des couches nanoporeuses (npls) à base de semi - conducteurs à oxyde métallique (MOS) et de catalyseurs métalliques ont été déposées par impression sur une plate - forme Multi - capteurs et testées avec du toluène et du formaldéhyde comme gaz cibles. Jusqu'à trois NPL de composants différents sont utilisés comme couche de détection. À partir d'indicateurs de performance clés tels que la sensibilité, la sélectivité, le temps de réponse / récupération et la limite de détection (LOD), le système a analysé l'impact de la composition du matériau sur les propriétés de détection des gaz.

Partie 03.Service de dépôt de couche nanoporeuse sensible à l'air: création rapide de matériaux de détection haute performance

Pour aider les chercheurs et les équipes de développement à faire progresser plus efficacement le développement et l'évaluation des matériaux pour les capteurs de gaz, vsparticle propose des services de dépôt de couches nanoporeuses sensibles à l'air personnalisés qui construisent des couches de matériaux sensibles à haute performance structurellement contrôlables directement sur votre substrat cible. Les services que nous pouvons vous offrir comprennent:

Personnalisation et dépôt de matériaux

1. Utilisation de la technologie d'ablation par étincelle VSP (Spark ablation) pour générer des nanoparticules de taille 1 - 20nm

2Matériaux mono - éléments optionnels (tels que PT, Pd, au, ni, etc.), également configurables avec des systèmes multicomposants ou dopés

3Aucune dépendance aux solvants et à l'encre pour une impression sèche sans masque

Construction contrôlée de Nanostructures

1Forme une structure de réseau continu poreux à haute surface spécifique, optimisant le chemin de diffusion des gaz avec des sites réactifs actifs

2Les paramètres clés tels que l'épaisseur de dépôt, la distribution de la taille des particules, la conception de motif / matrice de dépôt peuvent être ajustés en fonction de la demande

3Fournit un point unique, microzone Patterning array, multi - position contraste test Layout

Essais d'adaptation et de synergie en aval

1Peut être déposé sur une variété de substrats, y compris: puce MEMS, structure d'électrode, verre, plaquette de silicium, céramique, etc.

2Services supplémentaires en option: traitement thermique à basse température, test de performance de conductivité, observation de topographie Sem, absorption spectrale, etc.

Si vous êtes un chercheur à la recherche d'outils de développement de matériaux sensibles à l'air plus efficaces, un expert en ingénierie préoccupé par la cohérence des processus par lots et des performances des réseaux de capteurs, un utilisateur industriel à la recherche de solutions de compatibilité cryogénique et de dépôt de structures complexes, venez nous rencontrer sur le stand de vsparticle pour explorer ensemble les possibilités infinies de la technologie de nanoimpression sèche dans la détection de gaz ai!