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Précision à l'intérieur et à l'extérieur: analyse des éléments ultra - traces dans l'acide sulfurique de haute pureté avec nexion 5000 ICP - MS
Date :2025-12-19Lire :0



Acide sulfurique(H)2Alors4), un produit chimique clé utilisé dans la fabrication de semi - conducteurs, largement utilisé dansNettoyage des plaquettes, décapage de la colle photolithographique, gravure et polissage chimique.dans le nettoyage de la plaquette, l'acide sulfurique peut éliminer efficacement les résidus organiques et les contaminants de la surface de la plaquette de silicium, assurant que le substrat est propre et peut être utilisé pour les étapes ultérieures du processus. Pour le décapage de la colle photolithographique, l'acide sulfurique est généralement mélangé avec du peroxyde d'hydrogène pour former un "piranha etch liquide", une solution fortement oxydante qui nettoie efficacement les matériaux organiques de la plaquette. En outre, l'acide sulfurique de haute pureté joue un rôle clé dans les processus de gravure et de polissage chimique, dans le premier cas pour le formage structurel et l'usinage à motifs de matériaux semi - conducteurs, et dans le second pour assurer que les surfaces atteignent les exigences de planéité et de qualité requises.


内外皆精密|使用NexION 5000 ICP-MS分析高纯硫酸中的超痕量元素
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La pureté des produits chimiques de procédé (y compris l'acide sulfurique) est un facteur clé dans la fabrication de semi - conducteurs.Même des traces de contaminants ioniques ou particulaires peuvent causer des défauts tels que des courts - circuits, des problèmes de dépôt et de la corrosion, ce qui affecte finalement les performances du dispositif pour réduire le rendement et augmenter les coûts de production. En outre, les impuretés peuvent également poser des problèmes de fiabilité à long terme, tels que la dégradation des dispositifs et la défaillance prématurée, qui posent des risques importants pour les systèmes de sécurité automobile, ainsi que pour les applications de haute fiabilité telles que les dispositifs médicaux. Un contrôle strict des impuretés dans l'acide sulfurique est donc essentiel pour assurer une production fiable et de qualité de dispositifs semi - conducteurs.

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Avec les progrès continus de la technologie des semi - conducteurs, le marché a une demande croissante de puces miniatures hautement intégrées,Des exigences plus strictes en matière de propreté des produits chimiques de traitement.Les fabricants de semi - conducteurs s'efforcent de réduire davantage les limites de détection pour répondre au besoin d'analyse des impuretés ultra - traces. Semi c44 - 0618 "spécifications et lignes directrices pour l'acide sulfurique"1Fixer les limites d'impuretés à 100 ppt (Parties par trillion) pour tous les types d'éléments métalliques dans la classe C et à 10 ppt (Parties par trillion) dans la classe D. Pour atteindre un seuil de détection aussi bas, il faut recourir à des techniques analytiques avancées,Spectrométrie de masse à plasma à couplage inductif (ICP - MS)Avec sonHaute sensibilité et précisionDegrés, devenir la technologie préférée.

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Le maintien de la stabilité analytique à long terme dans l'analyse de l'acide sulfurique pose des défis supplémentaires pour l'application de l'ICP - MS, en plus de permettre la détection d'ultratraces. Acide sulfuriqueHaute viscosité, faible volatilité et corrosivitéPeut provoquer des dépôts d'acide sulfurique et de la corrosion sur l'interface de l'instrument, ce qui peut affecter la précision des mesures au fil du temps. Pour assurer la fiabilité et la reproductibilité des données, il est nécessaire deAvoir des processus et des instruments analytiques robustes- Oui.



Cette étude propose une utilisationNexION- Oui?5000 multipolaires ICP - MS9,8% h en mode multipolaire2Alors3Parmi les13 éléments métalliques(Na, Mg, Al, K, ca, CR, Fe, Co, ni, Cu, Zn, AG, Pb) Méthode d'analyse quantitative.2ParLimite de détection (DL), concentration équivalente de fond (BEC) et stabilité à long termeIndicateursLa qualité des données a été évaluée.




Conception expérimentale


Préparation des échantillons et des solutions standard

Toute la préparation et l'analyse des échantillons ont été effectuées dans une hotte laminaire de classe 100 dans une salle blanche de classe 10 000.


L'acide sulfurique à 98% est utilisé dans la fabrication de semi - conducteurs et, lorsqu'il est analysé par ICP - MS, il est généralement dilué 10 fois avec de l'eau Ultrapure. Dans cette étude, on a utilisé de l'acide sulfurique concentré de haute pureté (98% en poids) de BASF (usine de Taiwan, Chine), dilué 10 fois en poids avec de l'eau Ultrapure (Millipore, > 18,2 Ω m.cm) pour obtenir une concentration finale de 9,8%.


L'analyse quantitative est effectuée selon la méthode d'adhésion standard (MSA). Par dilution continue de 1000 ppm de liquide de réserve mono - élément indiqué dans le tableau « consommables utilisés » (truq- Oui?ms, Perkin Elmer), en utilisant de l'acide nitrique à 2% pour préparer une solution étalon mère Multi - éléments à concentration intermédiaire de 10 ppb. à 9,8% H2Alors4Cette solution standard finale est ajoutée pour obtenir des concentrations de 1, 5, 10 et 20 ppt.



Instruments

Toutes les expériences ont été réalisées avec nexion 5000 ICP - MS (Perkin Elmer). Les composants de l'instrument et les conditions de travail sont indiqués dans le tableau 1.


Tableau 1: composants de l'instrument nexion 5000 ICP - MS et conditions de fonctionnement (cliquez pour agrandir l'image)

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* plasma chaud optimisé pour 2,5% d'oxyde et plasma froid optimisé pour une stabilité maximale.



Relever le défi de la viscosité dans l'analyse de l'acide sulfurique

Le principal défi dans l'analyse de l'acide sulfurique est sa viscosité plus élevée, ce qui peut entraîner le dépôt de l'échantillon à l'interface, ce qui peut affecter la stabilité à long terme de la mesure. Pour résoudre ce problème, il est essentiel de maintenir la sensibilité analytique tout en réduisant autant que possible les apports. Ceci est possible en produisant des aérosols plus fins, plus secs et plus stables.


Dans cette étude, on a utilisé un système d'échantillonnage refroidi par pallager (pc3x) réglé à 5 °C, combiné à une chambre à brouillard rotatif et à un port d'entrée de gaz du système d'échantillonnage à matrice complète (AMS). Avant l'introduction du plasma, le système pc3x refroidit l'aérosol, filtrant efficacement les grosses gouttelettes et ne permettant qu'aux aérosols plus fins d'atteindre le plasma. Le gaz AMS dilue davantage les aérosols, contribuant à la formation d'un flux d'aérosols plus fin et plus sec et stable.3



Interférence plasma

Spectrométrie de masse à plasma à couplage inductif (ICP - MS)Sensible à l'amorçage par des ions hétérotrophes polyatomiques et homogènes produits par le gaz plasma et / ou les Constituents de la matriceEffets des perturbations spectrales. les interférences de source de plasma communes incluent ARLe +et ArHLe +Et AroLe +Affecte ca séparémentLe +et KLe +Et FeLe +L'analyse. En mode réactif, l'adoption d'une technologie propriétaire de pool universel (UCT) permet de relever efficacement ces défis.4Les instruments équipés de la technologie multipolaire à quatre pôles, tels que le nexion 5000 ICP - MS, permettent une élimination plus efficace des interférences.


Lorsque le nexion 5000 fonctionne en mode MS / MS, le premier analyseur quadripôle (Q1) Transmet sélectivement le nombre de masses cibles tout en éliminant les ions parasites, purifiant ainsi le faisceau d'ions et réduisant le bruit de fond. Les ions entrent ensuite dans la cellule universelle quadripôle (Q2), où les perturbations spectrales sont éliminées par une réaction contrôlée en phase gazeuse. Enfin, un deuxième analyseur quadripôle (Q3) filtre tous les perturbateurs résiduels, assurant que seuls les Analytes cibles atteignent le détecteur. Gaz ammoniac (NH3), avec une énergie d'ionisation plus faible (9,7 EV) et une paire d'électrons, est donc un gaz réactif hautement actif. L'ammoniac gazeux a été utilisé dans cette étude comme gaz réactif pour l'analyse de tous les éléments cibles. Comme le montre le tableau 3, le mode de transfert de masse est utilisé pour Zn et le mode MS / MS in situ est utilisé pour le reste des éléments.


Dans les analyses AG et pb, les perturbations spectrales ne sont pas un problème majeur lorsque l'ammoniac gazeux est utilisé. Au lieu de cela, l'utilisation de l'ammoniac gazeux peut exploiter son effet de focalisation de collision et améliorer la sensibilité. Pour les éléments analysés en mode in situ, des conditions de plasma froid ont également été utilisées pour atteindre une concentration équivalente de fond (BEC) inférieure.



Perturbation spectrale de l'analyse du zinc dans l'acide sulfurique

Comme le montre le tableau 2, outre l'interférence plasma, l'acide sulfurique (h2Alors4), en tant que matrice, introduit également de multiples perturbations spectrales.


Tableau 2. Éléments affectés par l'interférence s

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(cliquez pour l'agrandir)


Parmi les éléments affectés, le zinc (Zn) est le plus perturbé et l'analyse des traces est la plus difficile. Le zinc manque d'isotopes majeurs, ses trois isotopes les plus abondants (64et Zn,66Zn et68Zn) sont tous fortement perturbés par les atomes de soufre. Parmi eux, les isotopes les plus abondants64Zn sera également soumis à64Interférence isotrope de ni. Dans les produits chimiques de processus de qualité semi - conducteur, la teneur en impuretés métalliques est généralement extrêmement faible. En raison de64L'abondance naturelle du ni est faible (0926%) et sa paire64Les interférences avec Zn sont généralement rares. Cependant, si les niveaux de ni sont élevés, il peut y avoir une perturbation significative.


La première énergie d'ionisation de Zn est supérieure à celle des autres éléments ciblesEn raison de l'absence d'isotopes majeurs, sa sensibilité est inférieure. De plus, l'inhibition du signal par l'acide sulfurique à 9,8% réduit encore la sensibilité. Pour l'analyse des ultratraces, il est essentiel de maintenir une sensibilité suffisante, car cela détermine directement la limite de détection et la précision des données.


Pour réduire l'interférence avec Zn dans l'analyse de l'acide sulfurique, l'utilisation d'un mode de transfert de masse en mode ammoniac est la méthode la plus efficace.Cette méthode permet à Zn de former des clusters dans la cellule réactionnelle et donc de s'éloigner des perturbationsLa cellule universelle équipée de la technologie Axial Field Technology (AFT) joue un rôle clé dans le processus, en optimisant la cinétique et l'efficacité de la réaction grâce à un contrôle précis du temps de séjour des ions dans la cellule réactionnelle.


La tension AFT est réglable entre 0 et 475 V et le mode de réaction (RDC) est généralement réglé à 250 v. mais pour les réactions qui forment des grappes de prix élevé et nécessitent un temps de séjour plus long, une tension plus faible est généralement préférée.


Le Zn peut réagir avec l'ammoniac gazeux et plusieurs amas de Zn se forment dans la cellule réactionnelle, qui peuvent être observés à l'aide d'un spectrogramme de masse à balayage d'ions fils. Comme le montre la figure 1, lorsque le nombre de masses de Q1 est fixé à 66, le pic le plus élevé est observé au nombre de masses 117 de Q3, correspondent à Zn (NH).3) et3Pour les grappes les plus riches. Par rapport à un degré inférieur de formation de Clusters,L'avantage d'un degré plus élevé est d'autant plus grand que cela réduit la probabilité de formation de grappes d'interférences à prix élevé avec l'ammoniac gazeuxAssurant ainsi moins de bruit de fond. Un mode similaire de formation de grappes est également observé lorsque le nombre de masses de Q1 est fixé à 64.

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Figure 1. Affichage Zn vs NH3Spectrographie de masse à balayage des sous - ions formés par Clusters (cliquez pour l'agrandir)


AFT contre Zn (NH)3) et3L'optimisation de la formation de Clusters est illustrée sur la figure 2. Comme le montre la figure, la sensibilité des clusters d'ions Zn (66 / 117 et 64 / 115) varie avec la variation de la tension AFT et la sensibilité la plus élevée est observée à 20 V, valeur de tension bien inférieure à la tension usuelle de la cellule réactionnelle. En d'autres termes, une augmentation significative de la sensibilité est obtenue grâce à une optimisation AFT spécifique.

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Figure 2. Fonction de l'évolution de la sensibilité des clusters Zn (66 / 117 et 64 / 115) en fonction de l'AFT, mesurée à l'aide d'une solution étalon de 200 ppt d'élément Zn dans de l'acide sulfurique à 9,8% (cliquez pour agrandir l'image)


Résultats et discussions


Linéarité

Courbes d'étalonnage comme le montre la figure 3, toutes les courbes ont un coefficient de corrélation (R) supérieur à 0999, dans la plage d'étalonnageMontre une bonne linéarité- Oui.

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Figure 3. Courbes d'étalonnage pour tous les éléments cibles (avec 9,8% h pour la gamme standard 1 - 20 ppt)2Alors4Solution) (cliquez pour agrandir l'image)



Limites de détection de la méthode et concentrations équivalentes de fond

La limite de détection de la méthode (ldm) est calculée sans 9,8% H2Alors43 fois l'écart - type de 10 mesures répétées de la solution avec une concentration équivalente de fond (BEC) de 9,8% H sans addition2Alors4Concentration mesurée de la solution. Un résumé des données MDL et bec est présenté au tableau 3. La ldm de tous les éléments est inférieure à 1 ppt, ce qui équivaut à moins de 10 ppt dans l'acide sulfurique non dilué lorsque l'on utilise un facteur de dilution de 10 fois, ce qui indique queCette méthode peut répondre aux exigences d'analyse élémentaire de l'acide sulfurique de classe D- Oui.


Tableau 3. Paramètres de la méthode (cliquez pour agrandir l'image)

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Bec dépend de la teneur en impuretés de l'échantillon lui - même et du contrôle de la contamination dans la manipulation de l'échantillon et l'environnement de laboratoire.bec inférieur à 1 ppt pour la plupart des éléments, à l'exception de Fe, ni et ai. À des niveaux ultra - traces de 1 partie par billion (ppt), la sensibilité est également un facteur important pour obtenir des résultats précis. Pour H2Alors4L'élément Zn, extrêmement difficile dans la matrice, atteint une sensibilité de 20 CPS / ppt avec 66 / 117 et de 35 CPS / ppt avec 64 / 115, la sensibilité la plus élevée actuellement rapportée dans l'analyse de l'acide sulfurique.



stabilité

à 9,8% H2Alors4Un étalon Multi - éléments de concentration intermédiaire de 10 ppb a été ajouté à la solution pour atteindre un niveau de 10 ppt, en utilisant la solution résultante pour les tests de stabilité. La robustesse de l'instrument a été évaluée en alimentant en continu les échantillons et en analysant la solution standard sans rinçage entre les échantillons. L'évolution du taux de récupération des éléments au fil du temps est prise comme indicateur de stabilité.


Le taux de récupération de tous les éléments cibles est maintenu dans la gamme 85% - 115% pendant 4 heures de fonctionnement, comme le montre la figure 4,Démontrer une excellente stabilité des méthodes et des instruments d'analyse. Il est à noter que cette expérience est un test de pression conçu pour évaluer la robustesse extrême du système. Dans l'analyse de routine, 1% HNO est recommandé entre les échantillons3La solution acide isodiluée est rincée, ce qui élimine à la fois les résidus du fonctionnement précédent de l'échantillon et les dépôts d'acide sulfurique, améliorant ainsi la stabilité à long terme de l'instrument.5

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Figure 4. 9,8% H additionné à une concentration de 10 ppt par aspiration continue et analyse2Alors4Test de stabilité effectué pendant 4 heures avec la solution (cliquez pour agrandir l'image)


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conclusion

Résumé

Nous sommesNexION 5000 ICP-MSL'analyse de 13 éléments dans l'acide sulfurique de grade semi - conducteur à 9,8% a été évaluée. NousUne seule méthode combinant les conditions de plasma froid et chaud a été appliquée: Zn a été analysé en mode de transfert de masse dans des conditions de plasma chaud et les éléments restants ont été mesurés en mode MS / MS in situ dans des conditions de plasma froid. Les performances de l'instrument ont été évaluées à l'aide d'indicateurs tels que la limite de détection de la méthode (MDL), la concentration équivalente de fond (BEC) et la stabilité à long terme.

Tous les éléments cibles ont une limite de détection inférieure à 0,5 pptLa plupart des valeurs inférieures à 0,1 ppt satisfont aux exigences de la norme semi c044 - 0618 niveau D. Les valeurs de bec sont inférieures à 1 ppt pour la plupart des éléments, à l'exception de Fe, ni et al, qui ont des valeurs élevées en raison de la manipulation des échantillons ou de la contamination de l'environnement. En mode de transfert de masse, la sensibilité du Zn est de 20 CPS / ppt à 66 / 117 et de 35 CPS / ppt à 64 / 115, soit la sensibilité la plus élevée actuellement rapportée dans l'analyse de l'acide sulfurique. Dans la plage d'étalonnage de 1 à 20 ppt: tous les éléments cibles présentent une excellente linéarité (R > 0999).


9,8% H additionné à 10 ppt par prélèvement continu2Alors4Le test de stabilité a été effectué sur la solution pendant 4 heures.Le taux de récupération des éléments est maintenu entre 85% et 115%, démontrant la robustesse et la fiabilité exceptionnelles des méthodes d'analyse et des instruments- Oui.









Consommables utilisés

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Documents de référence

1. SEMI C44-0618 « Spécification et guide pour l'acide sulfurique »

Brochure interactive NexlON 5000 Multi-Quadrupole ICP-MS-PerkinElmer, 2020.

3. « All Matrix Solution System for NexlON ICP-MS Platforms », Note technique de PerkinElmer, 2023.

4. Scott Tanner et Valdimir Baranov, "Theory, Design and Operation of a Dynamic Reaction Cell for ICP-MS", Atomic Spectroscopy, vol. 20(2), mars/avril 1999.

5. Chady Stephan et Ewa Pruszkowski, « Ultra-TraceElemental Analysis in High-Purity Sulfuric Acid », PerkinElmer Application Note, 2021.

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