Après les années 1960, la méthode CVD a été appliquée non seulement dans le domaine des matériaux composites spéciaux de l'industrie aérospatiale, des matériaux de réacteur atomique, des couteaux, des revêtements résistants à la chaleur et à la corrosion, mais également dans le domaine de l'industrie des semi - conducteurs, bien que relativement tard, mais Aujourd'hui en tant que technologie de circuit intégré à grande échelle et technologie de préparation de films minces de matériaux ferroélectriques, isolants et magnétiques, tous * sont utilisés. La méthode CVD pour la préparation des matériaux de film mince est une méthode de processus plus réussie pour les semi - conducteurs, les applications de circuits intégrés à grande échelle ces dernières années, principalement pour la croissance épitaxiale du silicium, des matériaux d'arséniure de gallium, des matériaux de film mince métallique, des couches isolantes superficielles, des couches durcies, etc., pour le dépôt de certains films fonctionnels et ultra - durs tels que les oxydes, les carbures, l'argile et les diamants, etc., également pour la synthèse de poudres, de matériaux en vrac, de fibres, etc., et est devenue une méthode importante de synthèse de matériaux dans de nombreux domaines industriels tels que l'électronique, la mécanique et d'autres

Tôt ce matin, notre ingénieur après - vente supplémentaire est allé à l'école pour aider les enseignants à installer le système CVD de débogage.

La mise en service de l'installation s'est très bien passée

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Après la vente des produits de la série kejing de la région de Shanghai, bienvenue à tous les enseignants pour prendre rendez - vous!