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Paramètres techniques et conception structurelle de la table d'échantillons à haute température
Date :2025-07-17Lire :0
  Table d'échantillons à haute températureC'est un équipement expérimental capable de supporter et de chauffer des échantillons de manière stable dans un environnement à haute température, largement utilisé dans les domaines de la science des matériaux, de la chimie, de la physique et des minéraux géologiques, dont la fonction principale est de réaliser la caractérisation des performances des échantillons et l'observation des processus Dans des conditions à haute température grâce à un contrôle précis de la température.
I. paramètres techniques: la plage de température et la précision sont des indicateurs de base
Plage de température
régulierTable d'échantillons à haute températureLa température de fonctionnement couvre la température ambiante à 1500 ℃, telle que la table chauffante à haute température sous vide utilisant une unité de chauffage de fil de platine avec une feuille d'échantillon de saphir, peut réaliser un chauffage à haute température de 1500 ℃, applicable au frittage de céramique, au changement de phase métallique et à d'Autres * * conditions d'étude.
Certains appareils étendent la limite inférieure de température grâce à une conception modulaire, comme qsense ® La table d'échantillon à haute température, par l'intermédiaire d'un dispositif de chauffage / refroidissement externe, étend la plage de température à 4 - 150 ℃, répondant aux besoins de recherche de changement de phase à basse température.
Précision du contrôle de la température
La stabilité de la température de l'équipement jusqu'à ± 1 ℃, telle que la table thermique à haute température sous vide équipée d'un thermocouple à trou central pour étalonner la température en temps réel, assure la précision des expériences telles que le changement de phase du métal, le comportement thermique des matériaux macromoléculaires.
Certains programmes de soutien de l'équipement pour le réchauffement et le maintien de la température constante, tels que la table thermique à haute température sous vide en option avec un système de contrôle informatique, peuvent réaliser des processus de contrôle de la température complexes et s'adapter aux processus de synthèse et de recuit des matériaux.
Conception structurelle: modularité et sécurité
Conception des unités de chauffage
L'élément chauffant de base utilise un matériau résistant à haute température, tel que la table thermique à haute température sous vide utilise un fil de platine enroulé autour de la tasse de poterie, avec des caractéristiques antioxydantes; La table d'échantillon chauffée à ultra haute température TEM Solid adopte un élément chauffant en fil de tungstène qui peut résister à des températures élevées supérieures à 1500 ℃.
Configuration de la table d'échantillon feuille porteuse de saphir ou substrat en céramique, tel que la feuille porteuse de saphir φ7mm avec système optique adapté à l'objectif avec une distance de travail minimale de 6,0 mm, assurant la clarté de l'observation microscopique à haute température.
Mécanismes de protection et de sécurité
Le système de protection à double couche contre le refroidissement par eau protège les lentilles et la sécurité des opérateurs, tels que le refroidissement automatique lorsque la température de fonctionnement de la table chaude à haute température sous vide dépasse 500 ℃.
La Chambre d'échantillon étanche à l'air prend en charge un vide de 10⁻³mbar avec un environnement de gaz protecteur pour empêcher l'oxydation de l'échantillon, applicable à l'étude de changement de phase à haute température de l'alliage dans un environnement de gaz inerte.