Appareil de revêtement par pulvérisation plasma semi - conducteurUtilisant la méthode de pulvérisation secondaire, il est largement utilisé pour la préparation d'échantillons SEM ou les essais de revêtement métallique. Utilisant le processus de pulvérisation de plasma à basse température, il n'y a pas de haute température dans le processus de revêtement, il n'est pas facile de produire des dommages thermiques. Ce petit pulvérisateur plasma utilise un système de contrôle PLC, tout fonctionne avec un écran tactile, ce qui facilite l'apprentissage et l'utilisation. Ce modèle d'instrument est également équipé d'une table d'échantillon rotative, capable de soulever efficacement l'uniformité du revêtement. (cet appareil est équipé d'une table d'échantillon chauffée rotative, qui peut améliorer l'uniformité du revêtement et l'adhérence du film) Ce petit pulvérisateur plasma utilise un système de contrôle PLC, tout fonctionne avec un écran tactile, ce qui facilite l'apprentissage et l'utilisation.
Principe de fonctionnement:
Excitation plasma:
Par l'intermédiaire d'un gaz inerte tel que l'argon (AR), l'ionisation sous l'action d'un champ électrique forme un plasma de haute densité.
Pulvérisation par bombardment ionique:
Un faisceau d'ions à haute énergie (énergie > 1 keV) bombarde une cible métallique ou chimique, permettant aux atomes de la cible de s'échapper pour former un flux de faisceaux moléculaires orientés.
Dépôt de film mince:
Les atomes de pulvérisation sont déposés en film à la surface du substrat et l'épaisseur est surveillée en temps réel par résonance cristalline du quartz.
Nettoyage périodique:
Nettoyage de la chambre à vide: le plasma résiduel est éliminé avec un mélange d'hydrogène et d'azote à 5% après le dépôt et la feuille d'aluminium de la paroi interne est remplacée tous les 10 cycles.
Entretien des cibles: les cibles métalliques polissent la surface toutes les 50 heures et les cibles en oxyde détectent régulièrement les fissures.
Maintenance du système de base:
Système de vide:
L'huile de la pompe moléculaire est remplacée toutes les 500 heures et la pompe mécanique nettoie le filtre tous les trimestres.
Les joints d'étanchéité vérifient la déformation tous les mois et les joints toriques sont remplacés obligatoirement tous les six mois.
Système électrique:
La résistance à la tension (> 10kV) est testée chaque semaine pour l'isolation des câbles haute tension.
Les radiateurs d'alimentation au plasma dépoussièrent toutes les deux semaines et empêchent les décharges d'arc.
Traitement d'urgence en cas de défaillance:
L'Arc de pulvérisation n'est pas stable: l'électricité est immédiatement coupée, un ruban isolant est appliqué pour isoler les pièces métalliques exposées.
Le degré de vide chute trop rapidement: vérifiez la bague d'étanchéité de la bride, le détecteur de fuite d'hélium positionne le point de fuite.
Super mauvaise uniformité du film: calibrer la vitesse de rotation / rotation du support de substrat.