Appareil de revêtement par Pulvérisation magnétron à quatre cibles

La Pulvérisation magnétron par rapport à la pulvérisation plasma ordinaire a l'avantage d'une énergie élevée et rapide, d'un taux de revêtement élevé et d'une faible augmentation de la température de l'échantillon, ce qui est typique de la pulvérisation à haute vitesse et à basse température. La cible de contrôle magnétique est équipée d'un sandwich refroidi à l'eau, la machine de refroidissement à eau peut enlever efficacement la chaleur, éviter l'accumulation de chaleur sur la surface de la cible, de sorte que le revêtement de contrôle magnétique peut fonctionner de manière stable pendant une longue période