09,14,2026 4vues
Nanoscribe lance la toute nouvelle photolithographie IP - PDMS, un matériau d'impression polymérisé à deux photons (2pp) qui produit des structures 3D à surface libre en élastomère. Ce que la nouvelle lithographie IP - PDMS a à offrirDouceur, flexibilité, élasticité et biocompatibilitéEst personnalisé pour les applications qui dépendent des caractéristiques des matériaux élastomères typiques. Ce matériau en résine photosensible peut doncLargement utilisé dans de nombreux domaines futurs, tels que les échafaudages cellulaires imprimés en 3D et l'ingénierie tissulaire, les surfaces structurelles 3D, les dispositifs microfluidiques et les systèmes microélectromécaniques (MEMS).Attendez. IP - PDMS est optimisé pour les systèmes de micro et Nano - usinage 3D de nanoscribe et compatible avec les solutions de micro et Nano - usinage 3D à moyenne échelle:
Caractéristiques du photoadhésif IP - PDMS:
· module de Young inférieur de trois ordres de grandeur à celui de l'IP - S, 15,3 MPA
· caractéristiques élastiques élevées, allongement à la rupture supérieur à 240%
· caractéristiques de faible indice de réfraction
· pas de toxicité biologique, conformément à la norme ISO 10993 - 5 / USP 87
· matériau hautement flexible, largement adapté à différentes applications
Gauche: test de résistance à la compression à l'Institut Leibniz pour les nouveaux matériaux
De l'Institut des nouveaux matériaux de Leibniz, Allemagne (Le Dr René Hensel de Leibniz INM, Institute for New Materials, Saarbrücken, a déclaré: « La photolithographie IP - PDMS directement imprimable en 3D par nanoscribe est idéale pour créer des surfaces fonctionnelles avec une Microtopographie. Le lien de moulage chronophage peut être omis, c'est - à - dire que la conception est retournée dans le matériau élastomère, cette toute nouvelle façon de rendre plus de nouveaux designs possibles. '
En tant que matériau élastomère à base de silicone, l'IP - PDMS a des propriétés similaires à celles des PDMS classiques, ce qui fait de la nouvelle colle de lithographie IP - PDMS le matériau d'impression idéal pour la fabrication Additive de haute précision de micro et Nanostructures 3D avec des caractéristiques de douceur, de flexibilité et d'élasticité. Le caractère non biotoxique de l’ip - PDMS (conforme aux normes internationales ISO) pose les bases de nouvelles applications d’impression 3D dans le domaine des sciences de la vie et de la biologie. Nouvelle résine photosensible trèsConvient aux conceptions 3D pour la fabrication d'échafaudages cellulaires incurvés libres en élastomère ainsi que pour imiter les caractéristiques naturelles des tissus mous.
Illustration de la structure imprimée par IP - PDMS (de gauche à droite): gros plan de la structure microconique; Réseau de microcônes; Octaèdres avec un seul élément de diamètre extérieur de seulement 50 µm; Matrice octaédrique; Matrices parallélépipédiques rectangulaires 3D de tailles de volume différentes; Gros plan de la matrice parallélépipédique rectangulaire
Les scientifiques ont appris en étudiant les incroyables capacités rampantes du Gecko que chaque aîné plantaire du Gecko a des millions de poils rigides extrêmement fins, et que chaque poil rigide se termine par des centaines de branches micro - nanostructurées plus fines, ce qui permet au Gecko de s'adapter à n'importe quelle surface. Récemment, des scientifiques de l'Institut des nouveaux matériaux de Leibniz (INM) ont utilisé le système professionnel Photonic de nanoscribe pour concevoir une variété de formes différentes de Masters de micro et Nanostructures adhérentes en 3D, puis ont utilisé cette carte mère pour fabriquer finalement des micro et Nanostructures adhérentes en 3D par un moule de copie. La conception devrait s'appliquer à des tâches de préhension sur des lignes de production industrielles et à bien d'autres applications, notamment des robots grimpants pour des services de maintenance ou des systèmes de débris spatiaux pour l'élimination des orbites autour de la terre.
Matrice de micro et Nanostructures adhérentes biomimétiques fabriquées à partir d'un maître de micro et Nano - usinage 3D à partir d'un moule à pression répliqué.
Crédit photo: R. Hensel, INM – Leibniz Institute for New Materials
La technologie de lithographie à deux photons sans masque de nanoscribe a * La liberté de conception pour réaliser des micro et Nanostructures adhérentes dans presque n'importe quelle géométrie. Les scientifiques ont utilisé cette technique pour concevoir spécifiquement des micro et Nanostructures en forme d'entonnoir avec des alignements de colonnes ailées. En ajustant l'angle des ailes, il est possible de contrôler l'adhérence des micro et Nanostructures qui présentent une adhérence plus forte que ce soit à sec ou même sous l'eau.
Habituellement, ce type de conception et d'application de ces matrices adhérentes de micro - Nano - colonne avec le potentiel d'application que nous fabriquons avec des procédés de réplication. Cependant, le processus de moulage par duplication limite les degrés de liberté de conception, par exemple une grande contre - dépouille ne peut pas être façonnée à partir du moule. Le nouveau matériau élastomère directement imprimable développé par nanoscribe ouvre de nouvelles possibilités pour la conception avancée future de micro et Nanostructures élastiques directement imprimables.
Nanoscribe est basé à Karlsruhe, en tant qu'entreprise allemande de haute technologie basée sur la technologie de polymérisation à deux photons, nous avons une technologie de fabrication Additive de haute précision à l'échelle nanométrique, des solutions personnalisées innovantes pour les domaines de la recherche scientifique et de l'industrie, permettant un réseau de vente mondialisé et des services professionnels. Après plus d'une douzaine d'années de recherche et de développement technologique, nous sommes devenus un pionnier du marché de la fabrication Additive de haute précision micro et Nano, promouvant des projets innovants dans des domaines tels que la micro et Nano - optique, la micromécanique, le génie biomédical, la microfluidique, les métamatériaux et d'autres. Nous sommes présents dans plus de 30 pays à travers le monde et comptons plus de 2 000 utilisateurs actifs.
En savoir plus sur la technologie de lithographie sans masque à double photon 3D et les conseils sur les produits
Bienvenue à contacter la branche chinoise de nanoscribe - technologie 3D de nawax (Shanghai) Co., Ltd
Allemagne nanoscribe ultra haute précision double photon micro nano 3D système de lithographie sans masque:
Photonic Professional GT2 double photon micro nano 3D système de lithographie sans masque
Quantum x dispositif de micro et Nano - impression de lithographie à deux niveaux de gris photoniques
