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Dans les domaines de la synthèse de matériaux à très haute température, de la vérification du système de protection thermique de l'espace, de l'évaluation de la mise en service des matériaux des réacteurs nucléaires, de l'environnement à très haute température (> 1500°c) est devenu le support central des développements technologiques révolutionnaires.
CependantRésistance traditionnellechaufferFace à deux goulots d’étranglement majeurs:
Taux de réchauffement limité: le taux de réchauffement du four à résistance conventionnel est généralement inférieur à200 ℃ / min;
Limites de température insuffisantes:Soumis au point de fusion du matériau générateur de chaleur et aux pertes par oxydation, résistancechaufferTempérature de fonctionnement efficace Multi - stop1500 ℃, ne peut pas être satisfaitHaute températureBesoins de synthèse et d'essai de matériaux tels que les alliages;
Ces limitations entraînent l'absence de données cinétiques de changement de phase à haute température pour les matériaux, une vérification inadéquate des performances de service de choc thermique à haute difficulté, ce qui entrave considérablement le processus de recherche et de développement des matériaux.
Pour les défis ci - dessusRécemment, notre société a lancé une mise à niveauSystème de chauffage infrarouge ultra haute température, construire un environnement de champ thermique contrôlable avec précision:
(lancement du nouveau produit: début avril 2015)
lUtilisant la source de rayonnement infrarouge, combinée à la technologie de focalisation du miroir, la plus haute percée de température1700℃（Jusqu'à 1800 ℃) et; taux de réchauffementExtrêmementaméliorer，Accessible30 ℃ / s;Basé surHaute précisionAlgorithme PID, régulation dynamique de la puissance rayonnée, assurant des températures élevéesStabilité basse températureAtteint±0.1℃NiveauNe fais pas- Oui.
lConfigurationPompe à videAvec unité de remplacement de gaz, peut être sous vide àAtmosphère standardpresserAtmosphèreDes expériences dans des conditions de difficulté ultra - élevées sont réalisées dans l'environnement.
lSupport multi personnaliséProgrammeRefroidissement par litreContrôle de la température.
lPour permettre l'observation du cycle complet des processus à haute température, le systèmePeut adapter le système intégré de micro - optique, le système de Raman à haute température, etc.Pour:
ØUltraHaute températureMicroscopiquesystème
1) etConception modulairePour:Mise à niveau ultérieure d'autres fonctions de test in situ telles que la spectroscopie Raman.
2) etMise au point automatiquePour:Ajustement de levage d'objectif électrique.
3) et405nmÉclairage et imagerie photokoller monochromePour:Fond de longue longueur d'onde qui supprime le rayonnement du Corps noir, améliore la clarté de l'image;Champ de vision illuminé uniforme sans angles sombres.
4) etLogiciel de contrôlePour:Régulation mécanique, contrôle de la source lumineuse, imagerie microscopique et contrôle intégré des fonctions de conservation, autofocus, etc.
ØSystème de test Raman ultra haute température (avecAdaptation Raman timegate)
ParTechnologie de détection Time - gated (contrôle temporel de l'ordre de la nanoseconde), capture intermittente du signal Raman caractéristique du matériau lors du chauffage,FiltrationRayonnement de corps noir à ondes longues，Réalisé avec succès17Résolution in situ du mode vibratoire du réseau céramique à 00°c- Oui.
