1200 ℃ atomisation CVD dépôt chimique en phase vapeur équipement

Introduction au produit:

1200 ℃ atomisation CVD dépôt chimique en phase vapeur équipement, combine la technologie de nébulisation avec le processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), par nébulisation de la solution de précurseur en minuscules gouttelettes, puis la réaction chimique se produit dans la Chambre de réaction à haute température pour générer un film mince solide, avec des avantages tels que le dépôt uniforme, la composition contrôlable, adapté aux structures complexes, largement utilisé dans les semi - conducteurs, le revêtement optique, les nouveaux matériaux énergétiques et d'autres domaines.

Principaux domaines d'application:

1. Industrie des semi - conducteurs: les équipements CVD atomisés sont largement utilisés dans l'industrie des semi - conducteurs pour la préparation de divers matériaux en couches minces tels que le silicium polycristallin, le Nitrure de silicium, l'oxyde de silicium, etc. Ces matériaux en couches minces jouent un rôle clé dans les dispositifs semi - conducteurs tels que les couches isolantes, les couches de protection, les couches conductrices, etc.

2. Revêtement optique: l'équipement CVD atomisé peut être utilisé pour préparer un revêtement optique, tel qu'un film antireflet, un film opacifiant, etc. Ces films minces permettent d'améliorer les performances des dispositifs optiques et d'améliorer l'efficacité de la transmission optique.

3. Nouveaux matériaux énergétiques: dans le domaine des nouvelles énergies, les dispositifs CVD atomisés peuvent être utilisés pour la préparation de matériaux en couches minces dans les cellules solaires, tels que les cellules solaires en silicium à couche mince, les cellules solaires en pérovskite, etc. Ces matériaux en couches minces sont capables d'améliorer l'efficacité de conversion et la stabilité des cellules solaires.

4. Autres domaines: les dispositifs CVD atomisés peuvent également être utilisés pour la préparation de revêtements résistants à l'usure et à la corrosion, ainsi que pour la préparation de nanomatériaux, de whiskers, etc. Ces matériaux sont prometteurs pour une large gamme d'applications dans les domaines de la mécanique, de l'électronique, de l'aérospatiale, etc.

Caractéristiques principales du produit:

1. Bonne homogénéité du dépôt: la technique de nébulisation permet d'assurer une distribution homogène de la solution de précurseur, formant ainsi une couche de film homogène à la surface du substrat. Ceci est essentiel pour la préparation de matériaux de film de haute qualité et haute performance.

2. Forte contrôlabilité de la composition: la composition et les propriétés du film peuvent être contrôlées avec précision en ajustant la composition et la concentration de la solution de précurseur. Cela donne aux dispositifs CVD atomisés un avantage unique dans la préparation de films de composants complexes.

3. Convient aux structures complexes: les dispositifs CVD atomisés sont capables de traiter des substrats de formes complexes telles que des trous profonds, des tranchées, etc. Les gouttelettes après atomisation sont capables de pénétrer profondément à l'intérieur de ces structures complexes, permettant un dépôt homogène.

4. Faible température de dépôt: les dispositifs CVD à nébulisation partielle tels que le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma PECVD utilisent un plasma pour faciliter les réactions chimiques, permettant le dépôt de films minces de haute qualité à des températures plus basses. Cela contribue à réduire la consommation d'énergie et à réduire les dommages causés aux substrats sensibles à la chaleur.

Détails du produit affichage:

Principaux paramètres techniques: