Ligne de production de liquide de polissage mécano - chimique

NégociableMise à jour sur05/07

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Vue d'ensemble

L'équipement de préparation de liquide de polissage mécano - chimique NP - CMP est principalement utilisé pour la dispersion de CMP (liquide de polissage mécano - chimique) (y compris le liquide de polissage à base de nanoparticules d'oxyde de silicium, le liquide de polissage de nanoparticules d'oxyde de cérium, le liquide de polissage mécano - chimique de carbure de silicium, le système d'alumine et le liquide de polissage mécano - chimique de type usinage ultra - précis du système de sol de silicium) et le broyage, la dispersion, le classement, la modification, etc. de divers micro et nanomatériaux

Détails du produit

NP-CMPChimiqueLigne de production de liquide de polissage mécaniquePrincipalement pourCMP (Liquide de polissage mécano - chimique) (Comprend des fluides de polissage à base de nanoparticules d'oxyde de silicium, des fluides de polissage à base de nanoparticules d'oxyde de cérium, des fluides de polissage mécano - chimique à base de carbure de silicium, des systèmes d'alumine et des systèmes de sol de silicium) de dispersionEt le broyage, la dispersion, le classement, la modification, etc. de divers micro et nanomatériaux, matériaux énergétiques nouveaux, retardateurs de flamme inorganiques, etc.

ChimiqueLa ligne de production de liquide de polissage mécanique (CMP Polish fluid) est un équipement spécial pour le mélange, la dispersion, le broyage et l'homogénéisation des composants du liquide de polissage tels que les abrasifs, les agents chimiques, les dispersants, etc. le noyau est d'assurer la stabilité du système, l'absence d'agglomération et L'uniformité de la composition.

Composition de l'équipement de base (par processus de préparation)

1. Équipement de prémélange: utilisation multiple * * réservoir d'agitation à grande vitesse * * pour le mélange préliminaire d'agents chimiques (par exemple, oxydant, régulateur de pH) avec un solvant (généralement de l'eau désionisée) pour former un système homogène en phase liquide en préparation de l'ajout ultérieur d'abrasif.

2. Équipement de broyage dispersif:

- machine de dispersion à haut cisaillement: disperse les agglomérats initiaux d'abrasifs tels que sio₂, al₂o₃ en générant une force de cisaillement intense avec le stator grâce à un Rotor tournant à grande vitesse, est un équipement clé pour garantir la dispersion du liquide de polissage.

- ponceuses / broyeurs à billes: pour les abrasifs de dureté élevée ou facilement agglomérés, affinez la taille des particules Abrasives à la plage cible (généralement à l'échelle nanométrique) et améliorez encore l'homogénéité par collision, frottement d'un milieu abrasif tel que des billes de zircone.

3. Équipement d'homogénéisation et de filtration:

- disperseur ultrasonique: aide à briser les agglomérats minuscules, particulièrement adapté à la dispersion finale des abrasifs à l'échelle nanométrique, améliorant la stabilité du liquide de polissage.

- Filtre de précision: avec une cartouche de filtre de classe micrométrique ou submicronique, filtrer les grosses impuretés particulaires ou les agglomérats non dispersés dans le système, éviter de rayer les plaquettes et autres pièces lors du polissage.

4. Équipement de mélange et de stockage:

- mélangeur statique: permet un mélange efficace pendant le transport des matériaux et évite les inégalités locales de composition.

- * * réservoir propre * *: avec agitation, contrôle de la température et protection contre la poussière pour le stockage du liquide de polissage fini préparé contre la délamination ou la contamination.

Exigences techniques de base

- pureté élevée: la paroi intérieure de l'appareil doit être lisse et résistante à la corrosion (par exemple en acier inoxydable 316L ou en PTFE), évitant ainsi la contamination du liquide de polissage par des ions métalliques ou des impuretés.

- contrôle précis de la température: certains composants chimiques seront exothermiques lorsqu'ils sont mélangés, il est nécessaire de contrôler la température par un système de refroidissement par eau ou de chauffage à double enveloppe pour empêcher la détérioration des ingrédients ou l'agglomération des abrasifs.

- Paramètres contrôlables: la vitesse de dispersion, le temps de broyage, le taux d'agitation et d'autres paramètres doivent être ajustés avec précision pour correspondre aux besoins de préparation de différentes formulations de liquide de polissage.

NP-CMPChimiqueLiquide de polissage mécaniqueLigne de productionLigne de productionRoute de processus testée, déjà réalisée en production de masse

Contrôle intelligent, surveillance en temps réel, stockage de données complet, affichage intuitif des diagrammes, des tableaux

Vitesse de rotation réglable, température réglable, intensité ultrasonique réglable, temporisation possible

Opération facile et concise, nettoyage facile














	Np (technologie de navi) est une société de haute technologie qui développe, prépare, personnalise micro et Nano, nouvelle énergie et d'autres matériaux pour la réaction, la dispersion, toute la ligne de production et d'autres équipements et équipements de nettoyage. Le développement de produits de la société suit le principe de conception de « l'intelligence, la modularité, la continuité, la miniaturisation», adhère à la philosophie de « la conception et la fabrication de l'équipement le plus approprié pour répondre aux conditions de processus de l'utilisateur», et « sincèrement fournir aux clients la meilleure solution et le meilleur service», la série développée de synthèse de micro et nanomatériaux, l'équipement de réaction, l'équipement de dispersion à haute efficacité de micro et nanomatériaux est largement applicable aux Nano Ni, AG, Cu, fepo4, MnO2, ZrO2, TiO2, Mg (OH) 2, SiO2, phosphate de fer, phosphate de fer lithium, ternaire et autres micro et nanomatériaux de la recherche en laboratoire, petit essai, amplification pilote, jusqu'à la production à l'échelle industrielle. Comprend: 1, équipement de réaction standard utilisé en laboratoire, équipement de dispersion, équipement d'agitation, équipement de broyage, équipement de nettoyage, etc.; 2. Divers équipements de laboratoire personnalisés; 3. équipement complet de laboratoire personnalisé; 4, équipement pilote personnalisé; 5, équipement de production de masse, etc.

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