Machine de lithographie de laboratoire

Paramètres de la machine de lithographie de laboratoire: 1. Zone d'exposition: 160mm * 160mm. 2. Résolution d'exposition: exposition de contact 0.8um-1um. 3. Précision d'alignement: 1-1.5um. 4. Intensité de la source lumineuse: 35mw / cm2. 5. Source de lumière UV: module LED importé.

Paramètres de produit de machine de lithographie de laboratoire:

1. Zone d'exposition: 160mm * 160mm

2. Résolution d'exposition: exposition de contact 0.8um-1um

3. Précision d'alignement: ± 1 - 1.5um

4. Intensité de la source lumineuse: 35mw / cm2

5. Source de lumière UV: module LED importé

6. Longueur d'onde centrale d'exposition: 365 nm

7. Durée de vie de la source lumineuse: 10 000 heures, parallélisme de la source lumineuse: ≤ 2°

8. Résolution d'exposition: exposition de contact 0.8um-1um

9. Uniformité d'éclairement: ≤3%

10. Réglage de l'exposition: Timing

11. Mode d'exposition exécutable: contact sous vide, contact dur, contact de pression, proximité

12. Méthode de réglage de l'espace: espace d'exposition de réglage numérique 0 - 1200um

13. Réglable, peut séparer et éliminer l'écart automatiquement

14. Plage de mouvement relatif de l'échantillon, du Réticule: X: ± 5 mm, y: ± 5 mm, 0 = ± 6°

15. Méthode de nivellement de Réticule: nivellement automatique de flotteur d'air de boule

16. Peut soutenir la taille de Réticule: une pièce de 3 'X3', 4 'X4', 5 'X5', 7 'x7' chacun

17. Table de roulement Standard: 2 pouces, 3 pouces, 4 pouces, 6 pouces

18. Les accessoires standard peuvent être compatibles Épaisseur de l'échantillon: 0,1 - 5mm, d'autres tailles peuvent être personnalisées

19. Système d'alignement: optique + CCD, micromultiple: grossissement: 150x - 720x réglable

20. Gamme de distance réglable de double objectif: 30mm - 120MM