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Xiamen poimao Technology Co., Ltd
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Xiamen poimao Technology Co., Ltd

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    Parc industriel d'Anren, 1068 - 6, avenue qimeibei, district de Qimei, Xiamen

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Usine pald

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Vue d'ensemble
Le système de dépôt de couches atomiques pald (Atomic Layer Deposition) est une technique de formation d'un film déposé, avec auto - limitation et auto - saturation, en faisant passer alternativement des impulsions de précurseurs en phase vapeur à l'intérieur d'une cavité réactionnelle et en les adsorbant chimiquement et en réagissant sur la matrice de dépôt. La principale application de la technologie de dépôt de couche atomique est le dépôt de Nanofilms de haute précision, sans trous d'épingle et de haute conformation sur des substrats de différentes tailles et formes.
Détails du produit
I. paramètres de base:

Fourchette de prix: 100 000 - 500 000

Catégorie d'origine: système de dépôt de couche atomique domestique (ALD)

Taille du substrat: 4 pouces

Température de processus: RT - 300℃

Nombre de précurseurs: 4 groupes de précurseurs liquides ou solides

Poids: 40kg

Taille (wxhxd): 500 * 400 * 400mm

Uniformité: 99,9%

Le dépôt de couches atomiques (atomiclayerdeposition) est une technique de formation de films déposés, avec auto - limitation et auto - saturation, en faisant passer alternativement des impulsions de précurseurs en phase vapeur à l'intérieur d'une cavité réactionnelle et en les adsorbant chimiquement et en réagissant sur la matrice de dépôt. La principale application de la technologie de dépôt de couche atomique est le dépôt de Nanofilms de haute précision, sans trous d'épingle et de haute conformation sur des substrats de différentes tailles et formes.

Iii. Système de dépôt de couche atomique de table pald fabricant description du produit:

L'équipement de dépôt de couche atomique ALD de table ultra - petit développé par Xiamen pupmuo Technology est l'un des équipements puissants * pour la recherche sur les matériaux, il peut réaliser un dépôt de couche atomique uniformément contrôlable sur des éléments cristallins de 4 pouces (compatibilité descendante) et des poudres micro - nanométriques, avec un large champ d'application, chacun équipé d'un système de chambre de réaction de chauffage complet contrôlé indépendamment à 300 ℃, garantissant une température de processus uniforme, le système dispose d'un seau d'échantillon de poudre, d'un disque de support de cristal, d'un contrôle de température entièrement automatique, d'un cylindre de source de précurseur ALD, d'une vanne de contrôle de température automatique, d'un contrôle de sécurité de qualité industrielle et d'options de conception telles que rga, QCM, générateur d'ozone les meilleurs outils de R & D pour la recherche et l'application de nouveaux nanomatériaux

Iv. Xiamen poimao Technology Co., Ltd vous fournit les paramètres, prix, modèle, principe et autres informations sur le système de dépôt de couche atomique de type de bureau pald Factory, l'origine est Fujian, la marque est poimao, le modèle est minidesktopald, le prix est de 500 000 RMB, plus d'informations pertinentes peuvent être consultées, le téléphone du service clientèle de la société est à votre service 7 * 24 heures.

V. service après - vente:

Garantie: 1 an

Peut - on prolonger la garantie: Non

Consultation technique sur place: Oui

Formation gratuite: 1. Fournir au moins 2 personnes une semaine de formation d'usine d'origine de l'équipement avant que l'équipement ne quitte l'usine. 2. L'équipement termine l'installation et la mise en service sur le site

Entretien gratuit des instruments: il y a des besoins qui peuvent être arrangés

Promesse de réparation sous garantie: pendant la période de garantie (à l'exception des cas de force majeure et des dommages causés par l'homme) les composants, les coûts des éléments, les frais de déplacement sont à la charge de ma division

Promesse de garantie: notre division répondra en temps opportun en cas de panne pendant la période de garantie de qualité et enverra le technicien sur place dans les 8 heures pour résoudre la panne

Vi. Paramètres techniques:

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