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Guangzhou Noda Electronics Co., Ltd
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Guangzhou Noda Electronics Co., Ltd

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Détecteur portable de gaz trifluorure d'azote

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Catégorie de produit
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Vue d'ensemble
Le gaz de trifluorure d'azote de transport de diffusion peut détecter la concentration de gaz de trifluorure d'azote dans le tuyau ou l'espace confiné, l'environnement atmosphérique, peut être converti en un signal standard correspondant (le choix de type de signal standard s'il vous pla?t se référer au tableau des paramètres techniques) pour l'affichage uniforme, peut rapidement détecter de nombreux gaz toxiques et nocifs dans l'environnement.
Détails du produit



Paramètres de l'équipement

Mode de détection

Diffuse

Mesure des gaz

Trifluorure d'azoteGaz

Gamme de mesure

0 à 100 ppm; 0 à 20 ppm/

(plage de mesure non répertoriée en option)

Principe de détection

Électrochimie

Résolution

0,01 ppm(dépend de l'échelle)

Précision

3 % F.S.

Répétabilité

1 % F.S.

Mode d'affichage

Écran matriciel de points noir et blanc de 2,0 pouces 320 * 240

Enregistrement d'alarme

Enregistrement d'alarme intégré, peut enregistrer le temps d'alarme, la concentration

Temps de réponse

30S

Capacité de la batterie

3.7vdc, 2000ma capacité polymère polymère batterie avec surcharge, décharge excessive, surtension, surchauffe, fonction de protection contre les courts - circuits

Type de protection contre les explosions

Sécurité intrinsèque exib II ct4gb

Poids lourd

0,6 kg

Conditions de travail

Température: combustion catalytique: - 40 ~ + 70 ℃; Électrochimie: - 20 ~ + 50 ℃;

Pression: 86 - 110kpa; Humidité: 15% RH ~ 95% RH (sans condensation)

taille

LXWXH (131 * 66 * 33 mm)

Récupération de données

Pratique et rapide, restauration des paramètres d'usine en un clic

norme

GB 12358-2006 et

Accessoires d'usine

Instructions, chargeur, boîte en aluminium d'emballage, rapport d'essai, carte de garantie, certificat de conformité


































  • Nom chinois

NF3 est un excellent gaz de gravure au plasma dans l'industrie de la microélectronique, la gravure du silicium et du Nitrure de silicium, l'utilisation de NF3 et de CF4 + O2 pour les gaz mixtes a une vitesse de gravure et une sélectivité plus élevées, et il n'est pas polluant pour la surface. L'hydrogène réagit avec NF3, accompagné d'un dégagement de chaleur important en un instant, c'est le principe de l'application massive de NF3 dans les lasers chimiques à haute énergie. À haute température, la réaction du NF3 avec les composés organiques s'accompagne souvent d'une explosivité et doit être effectuée avec la plus grande prudence. 2. Utilisé comme carburant à haute énergie.