Poudre ALD fabricant

NégociableMise à jour sur01/29

Modèle

Nature du fabricant: producteurs

Catégorie de produit

Lieu d'origine

Consulter en ligne

Vue d'ensemble

La poudre ALD (Atomic Layer Deposition) est une technique de formation d'un film déposé, avec auto - limitation et auto - saturation, en faisant passer alternativement des impulsions de précurseurs en phase vapeur à l'intérieur d'une cavité réactionnelle et en les adsorbant chimiquement et en réagissant sur une matrice de dépôt. La principale application de la technologie de dépôt de couche atomique est le dépôt de Nanofilms de haute précision, sans trous d'épingle et de haute conformation sur des substrats de différentes tailles et formes.

Détails du produit

Un,Poudre ALD fabricantParamètres de base:

Fourchette de prix: 1 million - 2 millions

Catégorie d'origine: système de dépôt de couche atomique domestique (ALD)

Taille du substrat: 10g - 1000g poudre

Température de processus: RT - 300℃

Nombre de précurseurs: 2 groupes de gaz réactifs 8 groupes de précurseurs réactifs liquides ou solides

Poids: 300kg

Taille (wxhxd): 1150 * 1030 * 1850mm

Homogénéité: réalisation d'un revêtement uniforme de la couche atomique sur la surface de la poudre, homogénéité du revêtement < 3%

Le dépôt de couches atomiques (atomiclayerdeposition) est une technique de formation de films déposés, avec auto - limitation et auto - saturation, en faisant passer alternativement des impulsions de précurseurs en phase vapeur à l'intérieur d'une cavité réactionnelle et en les adsorbant chimiquement et en réagissant sur la matrice de dépôt. La principale application de la technologie de dépôt de couche atomique est le dépôt de Nanofilms de haute précision, sans trous d'épingle et de haute conformation sur des substrats de différentes tailles et formes.

Iii. Poudre ALD fabricant description du produit:

Équipement de dépôt automatique de couche atomique de poudre de la série GM de Xiamen pupmuo Technology il peut réaliser le dépôt de couche atomique ou la croissance de dépôt de couche moléculaire uniformément contrôlable sur la poudre micro et nanométrique, la Chambre de réaction de gm1000 peut fonctionner automatiquement ALD (dépôt de couche atomique) ou MLD (dépôt de couche moléculaire), l'équipement est équipé d'un système de chambre de réaction de chauffage complet de 300 ℃ contrôlé indépendamment, garantissant une température de processus uniforme. Le système dispose d'un seau d'échantillon de poudre, d'un mécanisme de fluidisation dynamique de la poudre, d'un contrôle de température entièrement automatique, d'un cylindre de source de précurseur ALD, d'une vanne de contrôle de température automatique, d'un contrôle de sécurité de qualité industrielle et d'options de conception telles que rga sur site, QCM, générateur d'ozone, boîte à gants, etc. Est * Le meilleur outil de R & D pour la recherche et l'application de matériaux énergétiques, de matériaux catalytiques, de nouveaux nanomatériaux.

Iv. Service après - vente:

Garantie: 1 an

Peut - on prolonger la garantie: Non

Consultation technique sur place: Oui

Formation gratuite: 1. Fournir au moins 2 personnes une semaine de formation d'usine d'origine de l'équipement avant que l'équipement ne quitte l'usine. 2. L'équipement termine l'installation et la mise en service sur le site

Entretien gratuit des instruments: il y a des besoins qui peuvent être arrangés

Promesse de réparation sous garantie: pendant la période de garantie (à l'exception des cas de force majeure et des dommages causés par l'homme) les composants, les coûts des éléments, les frais de déplacement sont à la charge de ma division

Promesse de garantie: notre division répondra en temps opportun en cas de panne pendant la période de garantie de qualité et enverra le technicien sur place dans les 8 heures pour résoudre la panne

V. paramètres techniques:

Produit similaire Recommander