Le principe de conception de l'appareil de placage de carbone par évaporation thermique sous vide élevé est basé sur le processus de dépôt par évaporation physique dans un environnement sous vide, dont le cœur est la formation d'un film conducteur uniforme par évaporation à haute température du matériau carboné et son dépôt sur la surface de l'échantillon. Voici une démystification détaillée de ses principes de conception:

I. Établissement de l'environnement sous vide

1. Exclure les gaz perturbateurs: avant le revêtement, l'intérieur de l'instrument doit atteindre un degré de vide élevé spécifique, généralement à l'aide de pompes mécaniques ou de Pompes moléculaires et d'autres équipements pour extraire les molécules de gaz à l'intérieur de la chambre. Cette étape est cruciale, car ce n'est que dans un environnement à basse pression atmosphérique que les molécules de gaz peuvent être efficacement évitées en cas de collision avec la substance vaporisée, garantissant que les atomes de carbone ou les molécules peuvent diffuser librement et se déposer avec précision à la surface de la pièce.

2. Garantie d'étanchéité: la chambre à vide en tant que composant principal est faite de matériaux à haute résistance et à faible perméabilité aux gaz pour maintenir un état de vide stable. Une bonne étanchéité est la clé pour assurer un environnement sous vide, il est capable d'empêcher l'air et d'autres gaz impuretés de pénétrer dans la Chambre, affectant la qualité du revêtement.

II. évaporation du matériau de carbone de l'appareil de placage de carbone par évaporation thermique à vide élevé

1. Choix de la source d'évaporation: les barres de graphite de haute pureté ou les fibres de carbone sont généralement choisies comme source d'évaporation. Ces matériaux ont une composition chimique fixe et de bonnes propriétés physiques, capables d'évaporer les atomes de carbone de manière stable pendant le chauffage.

2. Mode de chauffage: l'instrument chauffe la source de carbone solide à haute température (environ 3000 ℃ au - dessus) par chauffage par résistance électrique ou par faisceau d'électrons pour la sublimer à l'état gazeux. Dans ce processus, les atomes de carbone ou les molécules reçoivent suffisamment d'énergie pour surmonter les forces de liaison de surface et entrer dans la chambre à vide.

Iii. Dépôt d'atomes de carbone par évaporation thermique sous vide élevé

Diffusion libre: Les atomes de carbone ou les molécules à l'état gazeux diffusent librement à l'intérieur de la chambre à vide, ils sont transportés à la surface du substrat avec une vitesse de déplacement linéaire sensiblement sans collision.

2. Condensation en film: lorsque des atomes ou des molécules de carbone gazeux rencontrent la surface de la pièce à usiner à une température inférieure, ils se recondensent à l'état solide et forment progressivement un film de carbone sur la surface de la pièce à usiner. Dans ce processus, des collisions bidimensionnelles sont créées entre les atomes déposés, formant des amas qui finissent par former un film mince continu par contact, fusion de noyaux stables adjacents.

Iv. Garantie de dépôt uniforme

1. Conception de la table d'échantillon: les échantillons sont généralement placés sur la table d'échantillon rotative, assurant un dépôt uniforme à plusieurs angles. L'emplacement de l'échantillon par rapport à la source de vaporisation doit être maintenu de manière appropriée, une trop grande proximité de la source de vaporisation pouvant entraîner une surchauffe locale et une trop grande distance diminuant l'efficacité du dépôt.

2. Algorithme de contrôle d'évaporation: le GVC - 3000t utilise un algorithme de contrôle d'évaporation unique pour réaliser un dépôt précis d'atomes de carbone en contrôlant précisément la puissance de chauffage et le temps d'évaporation. Cet algorithme permet d'assurer un contrôle rigoureux de l'épaisseur et de l'uniformité du film de carbone dans différentes conditions de processus.

V. fonction auxiliaire et mesures de protection de l'appareil de placage de carbone par évaporation thermique à vide élevé

1. Fonction de protection: l'instrument est équipé de nombreuses fonctions de protection telles que la protection contre le vide, la protection contre les surintensités, la protection contre les surtensions, etc., pour assurer la sécurité et la stabilité de l'équipement pendant le fonctionnement.

2. Surveillance et régulation de la température: grâce à un capteur de thermocouple de haute précision et à un thermomètre infrarouge, l'instrument est capable de surveiller la température de la source de vaporisation en temps réel et d'ajuster automatiquement la puissance de chauffage en fonction de l'écart entre la valeur de consigne et la valeur réelle, assurant Ainsi la stabilité du processus d'évaporation.