L'appareil de placage de carbone par évaporation thermique à vide élevé a deux modes de fonctionnement de base, l'évaporation continue et l'évaporation pulsée, sa conception répond aux différents besoins du processus par le processus d'évaporation de contrôle précis, comme indiqué ci - dessous:

I. mode d'évaporation continue de l'évaporateur de carbone à évaporation thermique sous vide élevé

1. Principe:

Chauffer une source de carbone (telle que des fibres de carbone de haute pureté ou des tiges de carbone) avec une puissance constante pour qu'elle soit constamment fondue et vaporisée de manière stable, créant un flux de vapeur uniforme à l'intérieur de la chambre à vide. Les atomes ou molécules de carbone gazeux diffusent dans un mouvement rectiligne à la surface du substrat, condensant couche par couche en un film mince dense et solide. Ce mode repose sur un système de contrôle de la température en boucle fermée pour maintenir le taux d'évaporation constant, avec des fluctuations de puissance contrôlées à ± 1%.

2. Caractéristiques:

Haute efficacité et stabilité: idéal pour le revêtement de grandes quantités ou les scénarios nécessitant une formation rapide de film, tels que la préparation de la couche conductrice de l'échantillon Sem.

La couche de membrane est uniforme: le flux de vapeur couvre continuellement le substrat, réduisant les différences d'épaisseur locales et assurant la cohérence de la couche de membrane.

Processus simplifié: il n'est pas nécessaire de démarrer et d'arrêter fréquemment la source de chaleur, le processus d'exploitation est plus concis.

3. Scénarios d'application:

Préparer un film support TEM, portant des tranches ultra - minces ou des nanoparticules.

Comme couche protectrice ou conductrice dans l'analyse de surface (par exemple, analyse EDS par spectroscopie aux rayons X).

Besoins de revêtement par lots dans le domaine industriel (par exemple, couches conductrices de composants électroniques).

II. Mode d'évaporation pulsée d'évaporateur de carbone d'évaporateur thermique de vide élevé

1. Principe:

En utilisant le mode de chauffage intermittent, l'évaporation de la source de carbone est contrôlée par un signal pulsé. Au cours de chaque période d'impulsion, la source de carbone se réchauffe rapidement jusqu'à la température d'évaporation et libère des particules gazeuses, puis une pause dans l'échauffement permet aux particules de surface du substrat de se déposer suffisamment. Contrôle précis de l'épaisseur de la couche de membrane par rapport à la taille des particules en ajustant la fréquence des impulsions par rapport au rapport cyclique.

2. Caractéristiques:

Régulation fine: convient à la préparation de films de carbone ultra - minces ou de structures à l'échelle nanométrique, la précision du contrôle de l'épaisseur du film peut atteindre l'échelle nanométrique.

Réduire les dommages causés par la chaleur: le chauffage intermittent réduit la montée en température du substrat et évite les effets des températures élevées sur les matériaux sensibles.

Raffinement des particules: l'évaporation pulsée réduit les collisions de particules gazeuses et forme des particules plus fines de la couche de membrane.

3. Scénarios d'application:

L'optimisation des caractéristiques de surface de l'échantillon dans l'analyse EBSD nécessite un signal renforcé par un film de carbone haute résolution.

Revêtement d'échantillons cellulaires dans le domaine biomédical, nécessitant la minimisation des effets thermiques.

Revêtement d'éléments optiques (par exemple, film antireflet), nécessite un contrôle précis des propriétés optiques de la couche de film.

Iii. Base de sélection du mode de carbonimètre à évaporation thermique sous vide élevé

1. Demande d'épaisseur de couche de film:

Le mode continu convient à la préparation de couches de film plus épaisses (par exemple, de l'ordre du µm) et est plus efficace.

Le mode d'impulsion convient aux couches de membrane ultra - minces (par exemple, classe nm) avec une meilleure précision.

2. Caractéristiques du matériau de base:

Matériau résistant aux températures élevées (par exemple, métal) mode continu en option pour réduire le temps de processus.

Les matériaux sensibles à la chaleur (par exemple, polymères, échantillons biologiques) nécessitent un mode pulsé pour éviter la déformation.

3. Complexité du processus:

Les tâches de revêtement simples, telles que la couche conductrice, simplifient le fonctionnement en mode continu.

Les exigences de haute précision, telles que les Nanostructures, permettent un contrôle fin en mode pulsé.

Iv. Fonction de soutien de l'équipement de placage de carbone par évaporation thermique sous vide élevé

Système 1.vacuum: combinaison de pompe turbomoléculaire + pompe à disque rotatif, vide extrême, vide de travail pour assurer le processus d'évaporation sans pollution.

2. Gestion de la source de vaporisation: 4 sources de vaporisation de fibre de carbone de haute pureté peuvent fonctionner en alternance, détecter automatiquement l'état de marche - arrêt et prolonger la durée de vie.

3. Contrôle de table d'échantillon: soutenir la rotation manuelle / automatique, haute vitesse / basse vitesse deux vitesses réglables pour réaliser le dépôt uniforme Multi - angle.

4. Protection de sécurité: protection contre le vide, protection contre les surintensités, protection contre les surtensions, etc., pour empêcher les conditions de travail anormales d'endommager l'équipement.