La machine de développement est l'équipement de base dans le processus de lithographie, son rôle central est de transformer la surface de la plaquette de la colle de lithographie après l'exposition "inside" (invisible à l'œil nu), par l'action chimique en graphiques de circuits fins clairement visibles, est le lien clé de la connexion "exposition" et "Gravure" dans la fabrication de puces semi - conductrices, la production de composants électroniques de précision.

Le flux de travail de la machine de développement peut être simplifié en trois étapes: Tout d'abord, la plaquette après exposition est envoyée à la Chambre de développement; Par la suite, par pulvérisation ou trempage, le liquide de développement est appliqué uniformément sur la surface de la plaquette, dissolvant sélectivement la colle photolithographique non exposée (colle positive) ou exposée (colle négative) pour faire apparaître la pénombre; Enfin, après nettoyage pour éliminer le liquide de développement résiduel, séchage et durcissement, formant une base graphique stable du circuit.

Sa structure de base comprend un système de transport (qui garantit une transmission fluide et précise de la plaquette), un système de développement (qui contrôle la température, la concentration et le temps d'action du liquide de développement), un système de nettoyage et de séchage (qui améliore la stabilité graphique) et un système de contrôle (qui permet une régulation de précision automatisée). Avec l'avancement du processus de fabrication de puce à 3nm et au - dessous, la machine de développement évolue vers une plus grande précision, une plus grande efficacité et une plus grande intelligence, fournissant un support de base pour la miniaturisation et la densification élevée de l'industrie des semi - conducteurs.