Colle lithographique polymérisée multiphotonique(Multiphoton Polymerization Photoresist) est un matériau photosensible spécial spécialement conçu pour le micro - Nano - usinage 3D au Laser femtoseconde. Conçu pour le micro et Nano - usinage 3D au Laser femtoseconde, le photolithographe polymérisé multiphotonique est sélectionné en intégrant les indicateurs de performance clés pour assurer la précision, l'efficacité et l'adaptation de l'application.

Scénarios d'application:

Biomédical: puce microfluidique, fabrication de stents bioniques pour éviter la toxicité biologique des photoinitiateurs; ‌

Dispositifs photoniques: Cristal photonique tridimensionnel, traitement de réseau de microlentilles;

Mécanique de précision: les éléments sont écrits directement pour soutenir les structures suspendues complexes.

Critères de sélection des indicateurs clés de performance:

Résolution: détermine la taille minimale des caractéristiques (généralement jusqu'à 100 nm), la haute résolution permet la fabrication de structures plus fines (telles que des microlentilles ou des cristaux photoniques); Mais il faut peser les coûts sur les performances et éviter les investissements excessifs. ‌

Sensibilité: reflète la sensibilité à l'énergie d'exposition, haute sensibilité peut réduire la dose d'exposition laser, améliorer l'efficacité du traitement; Mais attention, une sensibilité élevée peut augmenter la sensibilité environnementale. ‌

Contraste: affecte la netteté des bords du motif, le contraste élevé (près de 90° des parois latérales) réduit le flou des lignes et améliore la précision structurelle. ‌

Performance de développement: assure l'élimination des zones non exposées, réduit les résidus; Lors de la sélection, vous devez vous concentrer sur la vitesse de développement et l'uniformité. ‌

Propriétés mécaniques: comprend la dureté, la ténacité et la résistance à la traction, empêchant la déformation ou la fissuration pendant le revêtement ou le traitement. ‌

Résistance chimique et stabilité thermique: résiste aux agents corrosifs, aux agents de nettoyage et aux traitements à haute température (tels que la cuisson), évite les distorsions graphiques; La stabilité thermique est particulièrement importante pour les environnements laser à haute énergie de polymérisation multiphotonique. ‌

Pureté: la teneur en impuretés doit être strictement contrôlée au niveau ppb, la haute pureté réduit le risque de microdéfauts.