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Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe
Solution de Nanofabrication interconnectée de lithographie de niveau de gris, nanoscribe 3D de fabricant d'équipement de nanoglue pour vous craquer!
Date :2025-11-03Lire :0
La Nanofabrication photointerconnectée par lithographie en niveaux de gris fait référence à: l'utilisation de la lithographie en niveaux de gris pour fabriquer une variété de micro et Nano - structures optiques tridimensionnelles critiques nécessaires à l'interconnexion optique en une seule fois et avec une grande précision.
La solution de Nanofabrication photointerconnectée de lithographie en échelle de gris avec ses avantages de haute précision, de haute efficacité et d'autres, est devenue une voie importante pour résoudre les problèmes difficiles de Nanofabrication interconnectée par la lumière, les solutions pertinentes de nanoglue 3D ont une forte représentation, voici une introduction spécifique:
Technologie de base: Lithographie à l'échelle de gris en trois dimensions Nanofabrication interconnectée solution la technologie de base est la lithographie à l'échelle de gris à deux photons (2gl) ®)。 La technologie combine les performances exceptionnelles de la lithographie en niveaux de gris avec l'unicité et la flexibilité de la polymérisation à deux photons, en synergie profonde avec la technologie de réglage dynamique des voxels à 100 MHz via un miroir de résonance laser à haute fréquence pour une impression 3D en écriture directe sans masque qui régule la taille et l'énergie des voxels en temps réel, sans découpe multicouche pour former des micro et Nanostructures tridimensionnelles en une seule fois.
La série quantumx est le premier système d'écriture directe laser de lithographie à deux photons, tel que le système Quantum xalign, la rugosité de surface ≤ 10nm, le contrôle de taille caractéristique jusqu'au niveau 100nm, peut imprimer des éléments micro - optiques à surface libre directement sur la surface d'extrémité de la fibre optique, la puce photonique, peut également être cartographié avec la topologie du substrat par détection automatique du noyau de fibre 3D, compléter l'alignement automatique à l'échelle submicronique, réduire les pertes de couplage à moins de 1db. Le système quantumxlitho peut traiter différents types de substrats, tels que des lames de verre ou des plaquettes de silicium jusqu'à 6 pouces, et est conçu pour le moulage rapide, la production en petites séries et la fabrication efficace de maîtres dans le processus de reproduction.
L'un est le traitement de structure de couplage ultra - haute précision, la résolution de traitement est inférieure à 100 nanomètres, la rugosité de surface de qualité optique (RA < 5 nm), peut imprimer directement la fibre optique - puce, le réseau de microlentilles requis pour le couplage puce - puce, la lentille à indice de réfraction dégradé et d'autres structures, peut contrôler les pertes de couplage du dispositif photonique à 1,5 db. Deuxièmement, la compatibilité Multi - matériaux et l'intégration hétérogène, le support de la colle photolithographique, du verre, des matériaux à base de silicium et des matériaux biocompatibles et d'autres types de base couramment utilisée pour l'encapsulation photonique, peut réaliser l'impression intégrée de la « Structure micro - optique + canal d'interconnexion conducteur» sur la même puce. Troisièmement, la fabrication de structures à travers l'échelle, à la fois pour réaliser des caractéristiques fines à l'échelle nanométrique, telles que l'ouverture du cristal photonique < 200 nm, et pour tenir compte de la structure globale à l'échelle millimétrique, telles que les puces optiques microfluidiques.
Scénario d'application: la solution couvre la liaison complète "R & D - production de masse" de l'emballage photonique. Destiné aux universités et aux instituts de recherche scientifique, il peut compléter la préparation de prototypes de nouvelles structures de couplage photonique en 1 à 2 jours, aider à la recherche et au développement de technologies de pointe telles que les surfaces superstructurales et les dispositifs photoniques quantiques; Pour l'extrémité de l'industrie, grâce à la plate - forme d'usinage au niveau de la plaquette de 6 pouces et à la conception de processus automatisés, réaliser la production en petite série de réseaux de microlentilles de communication optique, de commutateurs optiques MEMS et d'autres dispositifs, et changer de modèle de produit sans remplacer le masque, l'efficacité de production est améliorée de plus de 30% par rapport aux processus traditionnels.