Avec la pénétration profonde des micro et nanotechnologies dans les domaines de l'intégration photonique, de la biomédecine, de la fabrication de MEMS, etc., différentes industries ont des besoins différenciés en matière de précision, de compatibilité des matériaux et d'efficacité de traitement des micro et Nanostructures tridimensionnelles. Nanoscribe nanoscribe 3D s'appuie sur la spécialité - leip2gl ® La technologie de lithographie en échelle de gris à deux photons, pour créer des solutions de micro et Nano - usinage tridimensionnelles couvrant le lien complet « innovation scientifique - production industrielle de masse», avec les avantages de base de « haute précision + haute flexibilité + adaptation Multi - scénarios», est devenue un choix clé pour briser les goulots d'étranglement de micro et Nano - usinage dans diverses industries.

Dans le domaine de l'encapsulation photonique, les technologies d'impression micro et Nano - 3D, en particulier la polymérisation à deux photons (2pp), offrent des solutions transformatrices pour un couplage optique efficace et à faible perte entre la fibre et la puce, avec leurs avantages de haute précision, de véritables capacités d'usinage tridimensionnel et l'absence de masque.

D'un point de vue global, nanoscribe de nanowax 3D est un étalon industriel commun et reconnu dans ce domaine. Sa technologie de base, la lithographie en niveaux de gris à deux photons (2gl ®）， La combinaison de la précision de la polymérisation à deux photons avec l'efficacité de la lithographie en niveaux de gris est idéale pour la fabrication de micro et Nanostructures tridimensionnelles complexes dans des boîtiers photoniques.

I. choix des itinéraires techniques

Polymérisation à deux photons 2pp (écriture directe au Laser femtoseconde): face à la structure tridimensionnelle de forme libre à l'échelle submicronique - micrométrique, avec une liberté de conception extrême, adaptée à la microoptique complexe, à la micromécanique, à la microfluidique et aux échafaudages biologiques, etc.; Peut être moulé directement sur des substrats complexes, soutenant les processus Multi - matériaux et composites.

2, lithographie en échelle de gris à deux photons 2gl: dans le même flux de travail, la prise en compte de 2.5D / 3D, par la modulation fine de l'intensité du « voxel» pour obtenir une surface ultra - lisse et un contrôle intégré de l'indice de réfraction / topographie, adapté à la micro - optique d'Ouverture numérique élevée, aux dispositifs d'indice de réfraction à gradient et aux maîtres - moules de haute précision.

3, femtoseconde laser "2 - en - 1" Stratégie de recombinaison: dans la même plate - forme, la polymérisation asymétrique à deux photons (construction d'articulations hydrogel anisotropes) combinée à la réduction laser in situ des nanoparticules d'argent déposées (donnant photothermiquement des fonctions d'entraînement et de détection) pour les microrobots polyarticulaires, les Dispositifs déformables reconfigurables et d'autres microsystèmes actifs.

Impression directe sur fibre / puce: fournit la correction d'inclinaison et l'alignement Multi - liberté pour réaliser la sonde sers de surface d'extrémité de fibre, l'intégration hybride guide d'onde - micro - optique, et la fabrication Additive de microstructures 3D dans la puce, réduisant considérablement les coûts d'emballage et d'alignement.

Lot et automatisation au niveau de la plaquette: face au traitement par lots de plaquettes de 6 pouces, il prend en charge la distribution automatique de résine, les processus Multi - utilisateurs et la surveillance à distance, en tenant compte des besoins de prototypage rapide et de production en petite série.