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Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe
Ultrastructural surface sans masque laser droit graveur usine de lithographie - nanoscribe en trois dimensions, la sonnerie doit également être attaché à l'homme!
Date :2025-10-30Lire :0
Les surfaces superstructurales sont constituées d'atomes artificiels à l'échelle Sub - longueur d'onde et sont extrêmement exigeantes en précision d'usinage, en qualité de surface et en liberté de conception.
En tant que pionnier de la technologie de lithographie sans masque à deux photons, son équipement d'écriture directe laser sans masque Quantum x Series est doté d'une technologie de lithographie en échelle de gris à deux photons exclusive, dont la taille caractéristique minimale peut atteindre 160 nm et la rugosité de surface ≤ 10 nm. Le système d'alignement Quantum x possède une précision d'alignement à l'échelle nanométrique, peut fabriquer des structures tridimensionnelles haute résolution sur fibre, puce et plaquette, peut traiter avec précision des structures complexes telles que la surface libre de la surface superstructure, nanoscribe 3D nanogluant en tant que filiale à part entière en Chine, est responsable de la promotion et des services de localisation de cette série d'équipements.
Caractéristiques techniques: spécialisée dans la technologie de lithographie 3D par polymérisation à deux photons (TPP), sa série Photonic Professional gt est la référence de l'industrie.
Avantages: capable de réaliser un véritable usinage tridimensionnel de micro et Nanostructures avec des résolutions allant jusqu'à une centaine de nanomètres et même plus, il est particulièrement adapté à la réalisation de surfaces superstructurales avec des topographies tridimensionnelles complexes (telles que des réseaux de nanopiliers anisotropes).
Applicabilité: idéal pour la recherche et le développement de surfaces superstructurales 3D complexes et avancées.
La demande de régulation de la structure Sub - longueur d'onde de la surface superstructurale, impose des exigences presque strictes pour les équipements de lithographie.Nanoscribe en trois dimensionsLes équipements de la série X de Quantum gèrent facilement les surfaces libres, les réseaux de diffraction et d'autres usinages structurels complexes grâce à un contrôle d'échelle caractéristique latérale en trois dimensions de 160 nm et à une représentation de la rugosité de surface ≤ 10 nm. Son noyau 2gl ® La technologie fusionne la haute efficacité de la lithographie en niveaux de gris avec la précision de la polymérisation à deux photons, en ajustant dynamiquement la puissance du laser à un taux de 1 MHz, en réalisant une fabrication interdimensionnelle du nanomètre à l'échelle moyenne, en adaptant parfaitement les besoins de régulation fine de la phase lumineuse et de l'amplitude de la surface superstructurale.
Dans la recherche scientifique de pointe, cet appareil est devenu la clé pour briser le goulot d'étranglement technologique. À l'aide de sa surface de superstructure à large bande fabriquée, une équipe a réussi à résoudre la contradiction inhérente de la « plage de mesure et de la résolution» dans la technologie confocale dispersive, de sorte que la résolution latérale dans la gamme axiale de 100 microns est stabilisée à 1 micron, améliorant les performances de 2,5 fois. Dans le domaine de la détection biologique, les chercheurs ont utilisé ses capacités de traitement tout - en - un pour imprimer des capteurs intégrant des structures hyperhydrophobes et des éléments nanophotoniques, augmentant la sensibilité de détection du virus à 0,1 tcid50 / ML et réduisant le temps de détection à 15 minutes.