Le nettoyeur ultrasonique de silicium est un équipement de qualité industrielle pour l'élimination des contaminants de surface de silicium dans la fabrication de semi - conducteurs et la production de cellules photovoltaïques. Sa fonction principale est d'éliminer les contaminants tels que la matière organique, les particules, les impuretés métalliques et la couche d'oxyde de la surface de la plaquette de silicium par la technologie ultrasonique, tout en gardant les caractéristiques de surface de la plaquette intactes.
Le nettoyeur à ultrasons de silice utilise les fluctuations de pression générées par les ultrasons lorsqu'ils se propagent dans le liquide, formant de minuscules bulles et libérant une forte force d'impact lorsqu'ils s'effondrent instantanément, éliminant la saleté de la surface de la Feuille de silicium. Convient pour les pièces de silicium avec des géométries complexes.
Le nettoyeur ultrasonique de silice est largement utilisé dans le processus de fabrication de semi - conducteurs pour l'élimination des contaminants de surface des plaquettes de silicium et des ustensiles connexes, adapté aux besoins de nettoyage des maillons clés tels que la diffusion, la lithographie et l'oxydation. Dans la production de cellules photovoltaïques, l'équipement, avec sa précision de nettoyage au micron et son contrôle intelligent du processus, est devenu un équipement clé pour le lien de fabrication de la Feuille de silicium, capable d'éliminer efficacement la couche de dommages de coupe, les impuretés au micron et la pollution organique.
Le principe de fonctionnement du nettoyeur à ultrasons de tranches de silicium repose principalement sur l'effet de cavitation ultrasonique. Lorsque le générateur d'ultrasons produit des vibrations à haute fréquence, les bulles d'air dans le liquide de nettoyage se dilatent rapidement et éclatent, ce qui crée des ondes de choc instantanées à haute température et haute pression qui éliminent les contaminants de la surface de la plaquette de silicium. Plus précisément, l'effet de cavitation ultrasonique crée des millions de minuscules bulles d'air dans le liquide de nettoyage qui libèrent une grande quantité d'énergie lorsqu'elles se brisent, éliminant efficacement les particules, les résidus de photolithographie ou la couche d'oxyde à la surface de la Feuille de silicium.
Le principe de base de la machine de nettoyage à ultrasons en tranches de silicium est basé sur l'action de cavitation par ultrasons:
Le générateur d'ultrasons produit des signaux électriques à haute fréquence (la gamme de fréquences est généralement de 20 kHz à 120 kHz) qui sont convertis en vibrations mécaniques par des transducteurs qui créent d'innombrables bulles minuscules dans le liquide de nettoyage.
Les bulles se dilatent rapidement et se brisent sous l'effet de la pression acoustique, produisant des températures locales élevées (environ 5 000 k) et des pressions élevées (environ 1 000 ATM), créant des ondes de choc qui éliminent la matière organique, les particules, les impuretés métalliques et la couche d'oxyde naturelle à la surface de la plaquette de silicium.
Ultrasons à haute fréquence (au - dessus de 40 kHz) pour le nettoyage de la saleté de petites particules, éviter d'endommager la surface de la plaquette de silicium; Les ultrasons à basse fréquence (20 - 40 kHz) sont plus appropriés pour éliminer les contaminants tenaces.