Le revêtement par évaporation par faisceau d'électrons est une technique utilisant un faisceau d'électrons pour chauffer un matériau dans un environnement sous vide afin qu'il s'évapore et se dépose à la surface du substrat pour former un film mince. Voici une présentation détaillée de son processus d’utilisation:
I. préparation préalable
1. Préparation de l'échantillon et du matériau: Choisissez le matériau de placage à la vapeur approprié, tel que le métal, l'alliage ou le composé, selon la demande et placez - le dans un creuset refroidi à l'eau. Veillez à ce que le matériau soit de haute pureté et exempt de contamination.
2. Inspection de l'équipement: vérifiez que chaque composant de l'équipement est en bon état, y compris le pistolet électronique, la pompe à vide, le système de refroidissement, etc. Vérifiez que la connexion d'alimentation est correcte, ainsi que la chambre à vide est nettoyée sans impuretés.
3. Installation du substrat: fixez le substrat à revêtir sur le porte - échantillon, assurez - vous que sa position est précise et stable. Pour les substrats de formes complexes, le porte - échantillon doit être ajusté pour assurer une bonne couverture.
II. Aspiration
1. Démarrez la pompe à vide: allumez d'abord la pompe mécanique et réduisez initialement la pression d'air dans la cavité à un niveau inférieur (généralement inférieur à 10 Pa). La pompe moléculaire est ensuite activée, réduisant encore la pression atmosphérique jusqu'à un état de vide élevé (généralement de l'ordre de 5 × 10 ⁻² pa).
2. Maintenir l'environnement sous vide: tout au long du processus de revêtement, la pression de l'air dans la cavité doit être surveillée en permanence pour s'assurer qu'elle est dans la plage définie pour garantir la stabilité et la contrôlabilité du processus de vaporisation.
Chauffage et évaporation par faisceau d'électrons
1. Génération et mise au point de faisceau d'électrons: allumez l'alimentation du pistolet à électrons, émettez un faisceau d'électrons. Le rayon de déviation du faisceau d'électrons est contrôlé en ajustant l'intensité du champ magnétique de sorte que le faisceau d'électrons tombe exactement sur le matériau de placage à la vapeur à l'intérieur du creuset.
2. évaporation du matériau: augmenter le courant du filament et la puissance du faisceau d'électrons, de sorte que le matériau de placage à la vapeur fond progressivement et vaporise finalement. Dans ce processus, il est nécessaire de prêter une attention particulière à l'état d'évaporation du matériau pour s'assurer qu'il est uniformément chauffé et suffisamment évaporé.
3. Surveillance et contrôle de l'épaisseur du film: utilisez le système de contrôle de l'épaisseur du film pour surveiller l'épaisseur du revêtement en temps réel. Lorsque l'épaisseur souhaitée est atteinte, arrêter l'évaporation en fermant automatiquement ou manuellement le volet.
Iv. Post - traitement
1. Éteignez l'appareil: désactivez l'interrupteur de balayage du faisceau d'électrons, le courant, la tension et l'alimentation totale de l'appareil dans l'ordre inverse. Assurez - vous que tous les paramètres sont remis à zéro avant de passer à l'étape suivante.
2. Rupture de vide et prise de pièces: dans la cavité dans l'azote ou d'autres gaz inertes, de sorte que la pression atmosphérique est revenue à l'état de pression normale. Ensuite, ouvrez la porte de la cavité pour retirer l'échantillon plaqué.
3. Test d'échantillon: un test de qualité complet et un test de performance sont effectués sur les échantillons prélevés pour s'assurer qu'ils répondent aux exigences de processus et aux normes d'application.
Le processus d'utilisation du revêtement par évaporation de faisceau d'électrons implique plusieurs maillons. Chaque étape nécessite un contrôle strict des conditions et des paramètres pour assurer la qualité du résultat final. Au fur et à mesure que la technologie se développe et se perfectionne, cette technologie jouera un rôle important dans plus de domaines.