Four d'oxydation vertical à moyenne et haute température de 12 pouces

NégociableMise à jour sur05/07

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Nature du fabricant: producteurs

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Vue d'ensemble

Le four d'oxydation vertical à moyenne et haute température de 12 pouces theoris x302h est principalement utilisé dans les processus d'oxydation et de recuit à haute et très haute température de 12 pouces 1000℃ - 1200℃. Cette table est un système de tube de four vertical à une chambre, le processus de traitement du processus est hautement automatisé. Le système se compose principalement de modules de transmission, de modules de processus, d'armoires de puissance et d'autres parties. Le theoris x302p est principalement utilisé dans les processus d'oxydation et de recuit de 12 pouces 600℃ - 1000℃. Ce banc est un système de tube de four vertical à une chambre, le processus de traitement des processus a réalisé un système hautement automatisé composé principalement de modules de transmission, de modules de processus, d'armoires de puissance et d'autres parties.

Détails du produit

1. Aperçu du produit:

Théorie X302Principalement pour12 pouces 600℃ - 12Processus d'oxydation et de recuit à 00 ℃. Cette table est un système de tube de four vertical à une chambre, le processus de traitement du processus est hautement automatisé. Le système se compose principalement de modules de transmission, de modules de processus, d'armoires de puissance et d'autres parties.

2. équipementApplicationPour:

Taille de la plaquette

12 pouces

Matériaux applicables

Silicium

Processus applicable

Séchage à haute température/ oxygénation humide, oxydation DCE, oxydation dopée à l'azote, recuit à haute température

Domaines d'application

Circuits intégrés avancés, semi - conducteurs de puissance, matériaux de substrat

3. Paramètres caractéristiquesPour:

Le processus d'oxygénation humide consiste à ajouter de la vapeur d'eau à l'oxygène pour effectuer une réaction d'oxydation. Huaching du Nord L'équipement du four d'oxydation theoris x302 excelle dans le processus d'oxydation humide de l'oxygène. Il est capable de contrôler avec précision la teneur en vapeur d'eau et la manière dont elle est introduite pour obtenir une régulation précise du taux de croissance et de la qualité du film d'oxyde. Dans le contrôle de la température, il a également des caractéristiques de haute précision, assurant l'uniformité thermique de la Feuille de silicium dans un environnement humide d'oxygène, formant ainsi un film d'oxyde uniforme et dense. Le réglage du débit de gaz est également très précis, capable d'ajuster de manière flexible la proportion d'oxygène et de vapeur d'eau en fonction des besoins du processus, répondant aux exigences spécifiques des différents produits pour le processus d'oxygénation humide. Son excellente stabilité du processus et sa répétabilité rendent les résultats du processus d'oxygénation humide prévisibles et fiables.

4.Caractéristiques de l'équipement

Technologie avancée de contrôle des particules

Technologie avancée de contrôle de la pollution des métaux

Technologie de contrôle de champ de température de haute précision

Soutenez l'ascension rapide/ technologie de baisse de température

Capacité élevée

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