Viens! Objectifs infrarouges lcpln50xir et 100xir

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Objectif infrarouge Olympus

Objectif infrarouge 5X / 10x / 20x / 50xir

Pour l'industrie

Métallurgie, semi - conducteurs, aéronautique et autres domaines

Olympus lcpln50xir et lcpln100xir sont des objectifs de microscope spécialement conçus pour l'observation spectrale dans le proche infrarouge (NIR), principalement utilisés dans des domaines tels que les semi - conducteurs, la fabrication électronique et la métallurgie industrielle pour l'inspection non destructive des matériaux tels que la structure interne des plaquettes de silicium, les puces IC et autres. 34

‌I. caractéristiques techniques et de conception de base‌

00001.Capacité d'observation proche infrarougeLes deux objectifs sont optimisés pour la lumière proche infrarouge à des longueurs d'onde de 700 à 1300 nm, avec une transmittance élevée capable de pénétrer dans des matériaux tels que le silicium, permettant une observation non destructive de la structure interne de la plaquette, des lignes de collage ou des défauts. 38

00002.Bague de correction réglableC'est la caractéristique principale de la série lcpln - IR. L'objectif est équipé d'un anneau de correction qui permet une correction de la sphéricité pour différentes épaisseurs de matériaux de revêtement, tels que des feuilles de verre ou des couches de silicium, afin de maintenir une haute résolution et un contraste élevé lors de l'observation de différents échantillons. 34

· leGamme de correction d'épaisseur de verre‌： 0 - 1.2mm（50X）； 0 - 0.7mm（100X）。 ‌34

· leGamme de correction d'épaisseur de silicium‌： 0 - 1.2mm（50X）； 0 - 1.0mm（100X）。 ‌34

00003.Système optique à distance infinie̸: conçu avec optique de correction à distance infinie, compatible avec le chemin optique de microscopie à distance infinie standard. 12

00004.Comparaison des principaux paramètres optiques‌

‌II. Avantages de l'application‌

00001.Améliorer la précision de détection̸: l'ouverture numérique élevée combinée à la fonction de correction d'aberration peut fournir une résolution élevée et un contraste d'image dans la bande proche infrarouge, révélant clairement les détails microscopiques à l'intérieur du matériau. 89

00002.Adaptabilité accrue‌: la conception de l'anneau de correction permet au même objectif de s'adapter à différents processus de fabrication de plaquettes ou d'échantillons avec des couches d'encapsulation d'épaisseur différente, ce qui permet d'obtenir des images nettes sans changer d'objectif, améliorant ainsi l'efficacité et la flexibilité de détection. 38

00003.Support du mode imagerieLes deux objectifs prennent en charge l'observation de la réflexion et de la transmission en champ clair, ainsi que l'observation de la lumière polarisée. 210

00004.Compatibilité du systèmeEn tant que partie intégrante du système optique uis2 d'Olympus, il peut être utilisé avec le corps de microscope et les accessoires correspondants pour construire une plate - forme professionnelle de détection proche infrarouge. 4

‌Iii. Scénarios d'application typiques‌

· leAnalyse de défaillance des semi - conducteursDétection des fissures, des cavités, des couches et des défauts de connexion des fils métalliques à l'intérieur de la puce de circuit intégré. 8

· leDétection de WaferObservation des zones dopées, des défauts et de la structure cristalline à l'intérieur de la plaquette de silicium. 39

· leRecherche en science des matériaux‌: utilisé dans divers domaines de la recherche scientifique et de l'inspection industrielle nécessitant la pénétration de matériaux opaques pour l'imagerie interne. 12