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Shanghai Juna Technology Co., Ltd
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Ns3500 G grand scanner laser 3D sans contact

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Vue d'ensemble

Le NS - 3500g est un scanner sans contact 3D fiable. Des images microscopiques confocales en temps réel sont obtenues grâce à un module de balayage optique rapide et à des algorithmes de traitement du signal. Des solutions * pour la mesure et la détection de structures tridimensionnelles microscopiques telles que les plaquettes semi - conductrices, les produits FPD, les dispositifs MEMS, les substrats en verre, les surfaces de matériaux, etc.

Détails du produit

Ns3500g grand scanner laser 3D sans contact

NS-3500GEst un scanner sans contact 3D fiable.Des images microscopiques confocales en temps réel sont obtenues grâce à un module de balayage optique rapide et à des algorithmes de traitement du signal. Des solutions * pour la mesure et la détection de structures tridimensionnelles microscopiques telles que les plaquettes semi - conductrices, les produits FPD, les dispositifs MEMS, les substrats en verre, les surfaces de matériaux, etc.


Caractéristiques et avantages(performance et avantages):

  • Compensation automatique d'inclinaison pour mesure optique 3D sans dommage à haute résolution

  • Imagerie confocale en temps réelMode d'analyse de données simple

  • Plusieurs zooms optiquesDouble z - scan

    Large gamme d'épissureDétection caractéristique de substrats translucides

  • Temps réelImagerie champ ouvert et confocale CCDAucune préparation d'échantillon

  • Mise au point automatique


Champ d'application(domaines d'application):

Le NS - 3500 est une solution prometteuse pour mesurer les matériaux de faible dimension.

Peut mesurer la hauteur, la largeur, l'angle, la surface et le volume des structures micrométriques et submicroniques, par exemple

- semi - conducteurs: graphiques IC, hauteur concave et convexe, hauteur de bobine, détection de défauts, processus CMP

- produits FPD: détection d'écran tactile, motif Ito, hauteur d'espacement des colonnes LCD

- dispositifs MEMS: profil 3D structurel, rugosité de surface, graphiques MEMS

- surface du verre: cellule solaire à film mince, texture de cellule solaire, motif laser

- Étude des matériaux: détection de la surface du moule, rugosité, analyse des fissures


Specification (spécifications):

Modèle

Microscope NS-3500

Remarque


Contrôleur NS-3500E

Grossissement Objectif

10x

20 fois

50 fois

100x

150x


Gamme d'observation / mesure

Niveau (h): μm

1400

700

280

140

93


垂直 (V) : μm

1050

525

210

105

70


Plage de travail: mm

16.5

3.1

0.54

0.3

0.2


Ouverture numérique (N.A.)

0.30

0.46

0.80

0.95

0.95


Zoom optique

x1 à x6


Grossissement total

178x to 26700x


Systèmes optiques d'observation / mesure

Système optique confocal à trou d'épingle


Mesure de la hauteur

Mesurer la portée du scan

Balayage long: 10mm [NS - 3500 - t]


Résolution d'affichage

0,001 μm


Taux de répétition σ

0,010 μm

Note 1

Mesure de largeur

Résolution d'affichage

0,001 μm


Taux de répétition 3σ

0,02 μm

Note 2

Mémoire de cadre

Pixels

1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96


Image monochrome

12 bits


Images en couleur

8 bits pour RGB chacun


Mesure de la hauteur

16 bits


Frame Rate

Scan de surface

20 Hz à 160 Hz


Scan de ligne

~ 8 kHz


Fonction automatique

Gain automatique


Source lumineuse de mesure confocale laser

Longueur d'onde

405 nm


sortie

~ 2mW


Classe laser

Classe 3b


Élément de réception laser

PMT (photomultiplicateur)


Source lumineuse optique d'observation

lampe

LED de 10W


Caméra d'observation optique

Éléments d'imagerie

Capteur CCD d'image couleur 1 / 2 "


Résolution d'enregistrement

640x480


Ajustement automatique

Gain, vitesse d'obturation, white balance


Unité de traitement des données

PC


alimentation

Tension d'alimentation

100 to 240 VAC, 50/60 Hz


Consommation de courant

500 VA max.


poids

Microscope

Environ. ~200 kg

(Unité de tête de mesure : ~12 kg)


Contrôleur

~ 8 kg



Note 1: 100 mesures sur un échantillon standard (pas de 1 µm) avec un objectif de 100 × / 0,95

Note 2: 100 mesures sur un échantillon standard (pas de 5 µm) avec un objectif de 100 X / 0,95.