PVD magnétron pulvérisation machine de revêtement

NégociableMise à jour sur05/07

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Vue d'ensemble

PVD magnétron pulvérisation machine de revêtement distance de pulvérisation réglable, DC, DC pulsé, alimentation RF, alimentation hipims.

Détails du produit

　　PVD magnétron pulvérisation machine de revêtement/Équipement de revêtement PVDParamètres fonctionnels de base

1. Environnement et structure de l'équipement

- environnement de pulvérisation sous vide élevé

- plusieurs configurations de sources de pulvérisation

- distance de pulvérisation réglable avec précision

2, système d'alimentation

- support DC, DC pulsé, alimentation RF

- compatible avec hipims haute puissance pulsé magnétron alimentation par pulvérisation

3, capacité de traitement des échantillons

- support pour le placage d'échantillon en vrac

- les échantillons peuvent être chauffés / refroidis à basse température

- envoi d'échantillons entièrement automatique avec Load Lock en option

4, avantage de performance de film

- qualité de film de haute qualité, excellente uniformité d'épaisseur de film et répétabilité

- taux de revêtement de haute précision avec contrôle de l'épaisseur du film

- adhérence de film ultra forte

5, fonction optionnelle

- optionnel nettoyage par faisceau d'ions / dépôt assisté par faisceau d'ions

6, système de contrôle

- contrôle intelligent entièrement automatique de PLC + PC

7, matériel et adaptation de processus

- peut déposer des métaux, des semi - conducteurs, des matériaux diélectriques

- soutenir la pulvérisation multicouche de film, film d'alliage co - Splash

- le processus de pulvérisation réactive peut être réalisé

8, scénarios d'application

- convient pour la recherche scientifique pilote et la production industrielle de masse

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