Système de lithographie double photon sans masque Quantum x Shape

En tant que système d'impression 3D d'avant - garde dans sa catégorie

Forme X quantique Peut imprimer n'importe quelle forme, taille minimale jusqu'à 100nm en même temps(R)a) etMoins de 5NM, jusqu'à 25 cm de surface maximale

Système d'impression avec fonction de moule de goutte à goutte automatique, efficacité de nuit jusqu'à 200 structures caractéristiques.

Matériau polymère double photon haute performance universel, adapté à l'impression de polymères et de verre.

Transformer la précision.

Comme déjà reconnu par l'industrieNanoscribeLe système d'usinage de deuxième génération de la plateforme Quantum X, lancé par la société,Système de lithographie double photon sans masque Quantum x ShapePossède dans le domaine du micro et Nano - usinage 3Détonnamment élevéPrécision, plus que les épaulesNanoscribeEntreprise révolutionnaire dans les applications de structure de surfaceLithographie en niveaux de gris à deux photons(2GL ®)。 tout nouveauForme X quantiqueLa haute précision dépend de son taux de modulation Voxel le plus élevé et de sa grille de traitement ultra - fine, permettant un contrôle dimensionnel des sous - voxels. En outre, bénéficier deLithographie en niveaux de gris à deux photonsLe réglage fin des voxels, le système permet d'atteindre une ultra - lisse dans la réalisation de microstructures de surface tout en conservant un contrôle de forme de haute précision.

Modifier la sortie.

Système de lithographie double photon sans masque Quantum x ShapeNon seulement appliquée à la biomédecine, la micro - optique, MEMS、 Outil idéal pour le prototypage rapide de dispositifs dans les microcanaux, l'ingénierie de surface et bien d'autres domaines, il devient également un outil facile pour la production en série de petites cellules structurelles à base de plaquettes.

Transformer l'usabilité.

Améliorez considérablement l'utilité en contrôlant les fichiers d'impression via un écran tactile intégré au système. Surveillance à distance des fichiers imprimés et configuration multi - utilisateurs via le logiciel nanoconnectx intégré au système, permettant une normalisation industrielle et une production par lots basée sur l'efficacité des plaquettes.

Caractéristiques principales:

* impression à l'échelle nanométrique: contrôle d'échelle caractéristique dans n'importe quelle direction spatiale, jusqu'à 100nm

* contrôle de Voxel ultra - rapide et micro - Nano - usinage 3D haute vitesse avec grille de traitement 100nm

* précision de la trajectoire à la vitesse de balayage la plus rapide garantie par le contrôle orbital du miroir vibrant

* contrôle et positionnement de l'énergie laser de haute précision garantis par un chemin d'auto - étalonnage automatisé

* large choix jusqu'à 6 "substrat et silicone

* production en série industrialisée: 200 structures mésométriques standard sont produites toute la nuit

* Écran tactile et fonction de contrôle à distance pour garantir l'utilité et le sentiment d'expérience

* prototypage rapide, haute précision, grande liberté de conception, flux de travail simple et clair

* production en série au niveau des plaquettes validée industriellement

* matériel d'impression universel et spécial

* compatible avec les matériaux d'impression autonomes et tiers