Le pulvérisateur à commande magnétique à courant continu, en tant qu'équipement de préparation de film mince largement utilisé, rencontre souvent de nombreux problèmes lors de l'utilisation pratique. Ces problèmes concernent généralement des aspects tels que la stabilité du processus, la qualité du film, la maintenance de l'équipement, etc. Voici un aperçu des problèmes courants, une analyse des causes et des recommandations pour les résoudre:

I. le plasma est instable ou incapable de briller

1. Manifestation du problème:

La décharge luminescente est instable, clignote ou bat.

Incapable de briller normalement, aucun plasma n'est produit.

2. Causes possibles et contre - mesures:

Degré de vide insuffisant: le vide sous - jacent ou la pression d'air de fonctionnement n'ont pas atteint l'exigence de brillance. Le système de vide (pompe, vanne, tuyauterie) doit être vérifié pour les fuites.

Problèmes d'admission de gaz: le gaz de travail ar est impur ou il y a trop peu d'argon dans la cavité, ce qui entraîne une lueur anormale.

Problèmes liés à la cible: la surconsommation de la cible entraîne une exposition incomplète de la zone de piste magnétron, une intoxication de la cible (en cas de pulvérisation réactive) ou un mauvais refroidissement du panneau arrière entraînant une température trop élevée de la surface de la cible. Vérifiez l'état de la cible pour vous assurer que l'eau de refroidissement est fluide.

Mauvaise mise à la terre: mauvaise mise à la terre de la cavité ou de la table d'échantillon, entraînant une anomalie de la boucle de décharge. Vérifiez toutes les connexions électriques et les lignes de terre.

II. Problèmes de qualité du film

1. Mauvaise adhérence:

Causes: le substrat n'est pas nettoyé correctement 1 fond, la température du substrat est trop basse, le bombardment ionique au début du dépôt est insuffisant (la polarisation n'est pas activée ou trop faible), ou les contraintes internes du film sont excessives.

Contre - mesures: nettoyage du substrat (nettoyage par ultrasons, nettoyage par plasma); Augmenter convenablement la température du substrat; Ouvrir la polarisation de substrat pour le nettoyage ionique et renforcer la force de jonction de base de la membrane; Optimisation des paramètres du processus (le revêtement est précédé d'une couche de sous - couche augmentant l'adhérence, comme le nickel).

2. Le film n'est pas uniforme:

Causes: érosion inégale de la cible, substrat non parallèle à la surface de la cible, échec de la révolution / rotation du substrat.

Contre - mesures: optimisation de la distribution du champ magnétique de la cible (utilisation de cibles magnétron réglables); S'assurer que le mouvement de translation ou de rotation du substrat est normal; Ajustement de la position relative cible - base et de l'angle; Utilisez des chicanes si nécessaire pour optimiser la distribution de l'épaisseur du film.

Recommandations générales de maintenance et de prévention

1. Opération de spécification: strictement selon le Code de fonctionnement de l'équipement, en particulier les étapes d'aspiration, de gonflage, de démarrage et d'arrêt de l'alimentation électrique.

2. Entretien régulier:

Nettoyez régulièrement la cavité, Remplacez l'huile de pompe, vérifiez les joints d'étanchéité.

Calibrez les composants clés tels que les vacuomètres, les débitmètres, les alimentations électriques, etc.

Vérifiez le système d'eau de refroidissement et les conduites d'air.

Enregistrement 3.process: enregistrez en détail les paramètres, les phénomènes et les résultats de chaque opération pour faciliter la traçabilité des problèmes et l'optimisation du processus.

4. Préchauffage adéquat et pré - pulvérisation: après le démarrage et avant le revêtement officiel, préchauffer suffisamment l'équipement et pré - pulvérisation de la cible pendant suffisamment de temps pour nettoyer la surface de la cible et stabiliser le plasma.