Dépôt de couche atomique ALD compact et économique

NégociableMise à jour sur02/06

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Vue d'ensemble

Cet équipement de dépôt de couche atomique ALD est particulièrement adapté aux petits appareils de bureau des utilisateurs de recherche scientifique. Il est économique et pratique, facile à utiliser, de qualité stable et fiable, très faible coût des consommables après - vente, facile à réparer et facile à utiliser. Les laboratoires de professeur expert ALD sont largement utilisés.

Détails du produit

Présentation de l'équipement:
Cet équipement de dépôt de couche atomique ALD,Petit appareil de bureau spécialement conçu pour les utilisateurs de recherche scientifique.it est économique et pratique, opération simple, qualité stable et fiable, très faible coût des consommables après - vente, facile à réparer et facile à utiliser. Il est déjà largement utilisé dans les laboratoires de professeur expert ald.

Présentation de l'équipe R & D:

Le dispositif a été développé par des professeurs du Groupe du professeur Roy G. grodon de la prestigieuse équipe ALD de Harvard.

Roy G. Gordon, professeur Thomas D. Cabot, Département de chimie, Université Harvard, États - Unis. Les domaines d'études concernent les mathématiques appliquées, la physique, la chimie et la science des matériaux. Des méthodes de calcul d'approximations efficaces de fonctions spéciales (Airy, Bessel, Weber, Dawson, Morse, etc.) ont été développées dans le domaine des mathématiques appliquées et appliquées à des domaines tels que la mécanique quantique et la dynamique chimique. Dans le domaine de la physico - chimie, la fonction de potentiel « Gordon - Kim » a été proposée et peut être utilisée pour calculer avec précision les forces d'interaction intermoléculaire. Dans le domaine de la science des matériaux, depuis les années 80, Roy Gordon se consacre à l'étude des précurseurs et des procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt de couches atomiques (ALD), développant une gamme de précurseurs pouvant être utilisés pour la croissance de métaux purs, d'oxydes métalliques, de nitrures et de sulfures, etc., et appliqués à la production industrielle. Les méthodes techniques inventées par l'académicien Roy Gordon, actuellement appliquées dans l'industrie, comprennent: la préparation CVD d'une structure multicouche oxyde d'étain / silice pour vitrage à économie d'énergie;Préparation rapide de l'ALD Nano Al2O3 / SiO2 Film multicouche pour les dispositifs de filtrage optique;ALD préparation de Nanofilms de nitrure de titane pour la barrière de diffusion des conducteurs de cuivre, d'aluminium dans les puces informatiques;Préparation CVD de films Ito appliqués sur des cellules solaires à couches minces; Préparation CVD film mince de nitrure d'aluminium appliqué à l'affichage par Luminescence de champ.

Caractéristiques de l'équipement:

1. L'équipement est de petite taille et de petite taille,Particulièrement adapté aux études avec vide élevé, matériaux sensibles, aucune exigence de salle blanche professionnelle, le plus petit modèle peut être mis directement dans la boîte à gants pour fonctionner. Différentes formes de connexion peuvent également être établies en fonction des besoins et de la boîte à gants;

2. L'équipement convient à la recherche de niveau scientifique, peut faire un substrat minimum de 2 pouces;

3. L'emballage de poudre peut être fait;

4. Peut être dansOptions de mise à niveau du site de type thermique à plasma;

5. La table d'échantillon peut être personnalisée jusqu'à près de cent substrats selon la demande.

Intéressé contactez - nous maintenant.

Cas d'utilisateur:

Harvard, Helsinki (où ALD est originaire), Northwestern University, Cambridge (Royaume - Uni), Oxford, Rice University, British Columbia University (Canada), ens - Paris (France, École normale supérieure), National Institute of Materials Sciences (Japon, multi - Tai), Waseda University (Multi - Tai), Université de Tokyo, Beijing Quantum Research Institute, Université de Pékin, Université de Bristol (Royaume - Uni), Université de Sheffield, etc.

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