GVC - 2000t pulvérisateur ionique magnétron à vide élevé

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Vue d'ensemble

Le pulvérisateur ionique magnétron à vide élevé GVC - 2000t est un pulvérisateur ionique magnétron facile à manipuler qui donne aux machines de revêtement de technologie automatisée la meilleure valeur d'utilisation sur le marché. Il est utilisé dans les produits de traitement préparatoire des échantillons non conducteurs pour améliorer la résolution de l'écran d'imagerie 3D, la conductivité de l'échantillon, la réduction de la charge électronique et la réduction des dommages causés par la lumière aux échantillons sensibles comparés.

Détails du produit

高真空磁控离子溅射仪

GVC - 2000t pulvérisateur ionique magnétron à vide élevéC'est un pulvérisateur ionique à commande magnétique facile à manipuler qui donne aux machines de revêtement de technologie automatisée la meilleure valeur d'utilisation sur le marché. Il est utilisé dans les produits de traitement préparatoire des échantillons non conducteurs pour améliorer la résolution de l'écran d'imagerie 3D, la conductivité de l'échantillon, la réduction de la charge électronique et la réduction des dommages causés par la lumière aux échantillons sensibles comparés.

I. Description

1. Produits de connaissance entièrement automatiques;

2, aucun dommage thermique, efficacité plus élevée, granulométrie plus fine, plus approprié pour le miroir électrique à haute résolution.

II. Principes fondamentaux

Appareil dans lequel des matières premières conductrices telles que Pt - PD, PT, au et PD sont appliquées sur la surface de l'échantillon. En outre, les échantillons non conducteurs sont utilisés pour la visualisation des données sous des miroirs électriques à transmission, ainsi que pour maintenir la surface de l'échantillon à l'abri des risques d'introduction de faisceaux d'ions et aider à la fluidité de l'électronique. Ils peuvent même être produits comme niveau électrique de type film plastique.

Iii. Domaines d'application

1, préparation d'échantillon de miroir électrique à balayage haute résolution (grossissement réel ≥ 100k);

2, préparation d'électrode - toutes sortes d'électrodes métalliques, d'électrodes Ito peuvent être préparées.

Iv. Configuration de l'équipement et paramètres techniques

modèle& 160;nom	GVC - 2000t pulvérisateur ionique magnétron à vide élevé
Système de vide	Pompe turbomoléculaire (importée): leibao 90i, Allemagne (pompe moléculaire à suspension magnétique unique avec une vitesse de pompage de 90l / s) Pompe à vide à plaques tournantes: Zhejiang overflight VRD - 4 (vitesse d'extraction de 1,1 L / s)
Mesure du vide	Jauge à vide Composite pleine échelle (importée): 1.0e5pa - 1e - 4pa
Vide limite du système	≤5E-3Pa
Puissance de pulvérisation	Alimentation par Pulvérisation magnétron, puissance 150W
Cibles disponibles	Toutes les cibles métalliques, cibles Ito
Tension de pulvérisation	300-600V, Varie selon le choix de la cible, les paramètres de contrôle sont différents
Courant de pulvérisation	0 - 200mA réglable en continu, étape 5ma
Temps de pulvérisation	0-9999s, Étape réglable en continu 1S
Interface opérationnelle	Écran tactile LCD couleur TFT de 7 pouces avec résolution 800×480
Mode de fonctionnement	Opération en un clic
Vaping beat	< 15 minutes
Mode de contrôle	Il suffit de régler le courant et le temps de pulvérisation, contrôle entièrement automatique Avec déflecteurs de pré - pulvérisation (le temps de pré - pulvérisation peut être réglé), contrôle entièrement automatique
Fonction de protection	Software Hardware interlock, prévenir les erreurs d'exploitation, avec courant, protection contre le vide, etc.
Diamètre de la table d'échantillon	φ125mm， Peut tourner sur lui - même, peut être commandé manuellement automatiquement, vitesse de rotation 4 - 40rpm réglable
Chambre à vide	Verre de bore de silicium élevé, spécification taille environ φ 200×130mm
Alimentation électrique	220V 50hz puissance 800W
Dimensions & poids	Poids 424 (l) × 345 (p) × 420 mm (h), 25 kg (poids net)
Mode de refroidissement	Refroidissement à l'air intérieur
Sélection	Sélection de la table d'échantillon, contrôle de l'épaisseur du film, surveillance de la température, etc.