Pulvérisateur ionique magnétron à vide élevé

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Vue d'ensemble

Le pulvérisateur ionique magnétron à vide élevé GVC - 2000td peut préparer divers films métalliques, monolithiques, inorganiques non métalliques; Sans rupture de vide, la préparation de films composites multicouches peut être réalisée.

Détails du produit

高真空磁控离子溅射仪

I. avantage de produit de pulvérisateur ionique magnétron à vide élevé GVC - 2000td:

1, divers films métalliques, monolithiques, inorganiques non métalliques peuvent être préparés;

2, sans briser le vide, peut réaliser la préparation de film composite multicouche;

3. Opération d'une touche, contrôle entièrement automatique, degré élevé d'intelligence;

4, bonne cohérence, répétabilité;

5, paramètres de travail de cible multiples intégrés, pas besoin de tâtonner le processus de revêtement;

6, petite taille, structure compacte, très économie d'espace.

　　II. Paramètres du produit du pulvérisateur ionique magnétron à vide élevé GVC - 2000td:

Dimensions hors tout (hôte)	424 (L) × 345 (D) × 420 (H)	Alimentation d'entrée	220V / 50Hz 1000W
Tête de cible de pulvérisation 1	Pulvérisation magnétron DC	Cibles disponibles	Cibles métalliques
Tête de cible de pulvérisation 2	Pulvérisation magnétron RF	Cibles disponibles	Cibles inorganiques non métalliques
Système de vide	Pompe turbomoléculaireLe +Pompe à vide à plaques tournantes	Vitesse de pompage	90L/s Le + 1.1L/s
Mesure du vide	Jauge de vide Composite	Gamme de mesure	1E-3 ~ 1E5Pa
Chambre à vide	φ 200 × 130 mm Verre à haute teneur en borosilicium	Vaping beat	10 Minutes (≤5E-3Pa) et
Taille de la table d'échantillon	φ 90 mm	Changement de table d'échantillon	Contrôle automatique
Dimensions de la cible de pulvérisation	φ 57 mm(épaisseur 0,1 à 2 mm) et	Vide de travail	0,1-2Pa
Interface opérationnelle	7 pouce TFT Écran LCD tactile	Langue de fonctionnement	Chinois (autre langue optionnelle)
Refroidisseur d'eau	Petit refroidisseur de bureau	Puissance du refroidisseur d'eau	180W
Déflecteurs de pré - pulvérisation	Livré de série avec un déflecteur de pré - pulvérisation à contrôle entièrement automatique
Épaisseur de membrane (en option)	Peut afficher l'épaisseur du revêtement en temps réel et contrôler le processus de revêtement par réglage, mesurer la précision 0,01 nm, régler la précision 0,1 nm, plage de réglage unique 1 à 999 nm
Épaisseur de membrane (en option)
Composants de contrôle de la température (en option)	Module de chauffage de table d'échantillon 300℃/ 500℃
Composants rotatifs (en option)	Rotation oblique, rotation planétaire, etc.
Chariot (en option)	Assembler l'unité principale, l'alimentation RF, le refroidisseur d'eau, etc. ensemble, bonne intégrité
Environnement d'installation	220V / 10A Prise trois trous un, pureté 4N Argon de haute pureté et au - dessus (pression de sortie 0,12 MPa) et

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