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Shanghai Maikewei Semiconductor Technology Co., Ltd
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Annealsys France four de recuit rapide sous vide

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Lieu d'origine

Vue d'ensemble

Origine: annealsys, France; $R $N $R $N modèle: As - one100 / as - one150 $R $N $R $N 160; $R $N $R $le four de recuit rapide vertical NAS - one est produit pour la société française as et est divisé en trois modèles as - one 100, 150, 200 correspondant à des produits de four de recuit rapide sous vide de 4 pouces, 6 pouces et 8 pouces.

Détails du produit

Origine: annealsys, France;

Modèle: As - one100 / as - one150

Le four de recuit rapide vertical as - one est produit pour la société française as et est divisé en trois modèles as - one 100, 150, 200 correspondant à des produits de four de recuit rapide sous vide de 4 pouces, 6 pouces et 8 pouces.

Application:

- Recuit thermique rapide RTA;

- oxydation thermique rapide RTO;

- diffusion, recuit de contact;

- Recuit composé semi - conducteur;

- nitruration, siliciuration;

- sélénisation, Sulfuration;

- dépôt de graphène, croissance de nanotubes de carbone;

- cristallisation, densification;

Spécifications techniques:

spécification

AS-ONE 100

AS-ONE 150

Diamètre maximal de la base de l'échantillon

100mm (4 pouces)

150mM (6 pouces)

Taille de la cavité

130mm diamètre x 25mm

200mm diamètre x 25mm

Nombre de lampes infrarouges / puissance maximale

12PCS / 30kw

18 PCS / 34kw

Méthode de refroidissement de la lampe infrarouge

ventilateur

ventilateur

Plage de température standard

Température ambiante ~ 1250 ° C

Température ambiante ~ 1200 ° C

Gamme de versions haute température en option

Température ambiante ~ 1500 ° C

Température ambiante ~ 1300 ° C

Vitesse de réchauffement

0.1°C ~ 200°C/s

0.1°C ~ 150°C/s

Contrôle de la température

Contrôleur PID numérique rapide

Contrôleur PID numérique rapide

Thermocouples

Type K

Type K

Pyromètre

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

Injection de gaz

Sous la fenêtre Quartz

Sous la fenêtre Quartz

Nettoyage des routes de gaz

Configuration standard

Configuration standard

Méthode / quantité de route de gaz de processus

MFC / 5 voies

MFC / 5 voies

Système d'obtention du vide

干泵 (10-2Torr)

Pompe moléculaire (10 - 6torr)

干泵 (10-2Torr)

Pompe moléculaire (10 - 6torr)

Dimensions / poids

510mm x 1425mm x 800mm / 194Kg

510mm x 1425mm x 800mm / 240Kg

Clients de référence:

Université Tsinghua, Université de Pékin, Université Fudan, Université de technologie de Chine du Sud, dix - huit centrales électriques de Tianjin, cinquante - cinq centrales électriques de Nanjing, Centre de recherche et développement de ge Shanghai, Université de Shenzhen, etc.

Four de recuit rapide pour échantillons de grande taille

Le four de recuit rapide (RTP / RTA) est un dispositif de traitement couramment utilisé pour les matériaux et les dispositifs semi - conducteurs. Le four de recuit rapide peut être utilisé sous vide, atmosphère inerte, différents environnements de gaz de processus.

Caractéristiques de l'instrument:

- traitement thermique rapide, recuit thermique rapide RTP / RTA;

- peut être utilisé sous vide, même dans des environnements à vide élevé;

- largement utilisé dans le processus de recuit rapide des panneaux solaires, tels que les panneaux 156mm X 156mm, les panneaux 300mm x 300mm, etc.;